平成23年度 国際会議速報

（2012年5月15日更新）
(2011年5月17日掲載)
（H23-No.01） 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：通信用光デバイス・材料
CLEO 2011 ショート速報
秋本良一　（産業技術総合研究所）
会議名 ：The 2011 Conference on Lasers and Electro-Optics
開催期間 ：2011年5月1日−6日
開催場所 ：Baltimore Convention Center (Baltimore, MD, 米国)

*要　約*
　将来の光デバイスの究極の高密度光集積化を目指した、プラズモニ クスを原理とするナノレーザ等のアクティブデバイスに関するナノ フォトニクスの研究報告が活発であった。シリコンフォトニクス分 野では、CMOS回路との集積化に焦点を当てた光変調器・受光器の発 表が、インテル、IBM等を中心として活発になされており、引き続き この分野を牽引しているとの印象を受けた。
(2011年6月1日掲載)
（H23-No.02） 第6分野　加工・計測
テーマ：ディジタルホログラフィ
DH 2011 ショート速報
原田康浩（北見工業大学）
会議名 ：2011 OSA Optics and Photonics Congress on Digital Holography and Three-Dimensional Imaging
開催期間 ：2011年5月9日−11日
開催場所 ：東京大学 駒場リサーチキャンパス (東京都目黒区, 日本)

*要　約*
　本会議は ディジタルホログラフィと3次元結像・表示技術に特化した Optical Society of America(OSA)が主催するトピカルミーティングである． 一つのトピックのみで，かつ震災後2ヶ月の日本での開催ながら，過去 最大規模の講演数と参加者数となり，この分野での研究の活況を反映 していた．理論・原理提案や初期実験の報告だけでなく，具体的な応用 （生体細胞の操作・可視化，双方向ホログラフィックディスプレイ， 高速現象測定）への適用結果や装置化に関する研究報告が増えており， この分野の研究が次の段階に入っていることを強く感じた．
(2011年6月2日掲載)
（H23-No.03） 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：プラズモニクス
SPP5 ショート速報
田中 拓男（理化学研究所）
会議名 ：The 5th International Conference on Surface Plasmon Photonics (SPP5)
開催期間 ：2011年5月15日−20日
開催場所 ：BEXCO (釜山Busan, 韓国)

*要　約*
　この国際会議は，プラズモニクスとその関連技術に関する会議で，２年に １回開催されている．2011年の会議は韓国の釜山（Busan）で開催された． 日本，韓国はもちろんヨーロッパ，アメリカ，台湾，シンガポール，オースト ラリアなどから参加者が集まり，活気のある会議となった．会議では，プラ ズモニクスならびにメタマテリアルのトピックスを中心にその研究成果が 報告され，活発な発表と議論が行われた．
(2011年6月8日掲載)
（H23-No.04） 第4分野　ディスプレイ
テーマ：展示とブルー相液晶
SID 2011 ショート速報
三塩 翔吾（メルク（株）　液晶テクニカルセンター）
会議名 ：The Society for Information Display International Symposium, Seminar and Exhibition
開催期間 ：2011年5月15日−20日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center（ロサンゼルス, CA, 米国）

*要　約*
　今回のExhibitionでは、3Dディスプレイはもちろんのこと、狭額マ ルチディスプレイ、Transparentディスプレイ、タッチパネルディス プレイ、スマートフォン用高精細ディスプレイ、有機ELなど様々な 展示物があった。Symposiumでは、3D、電子ペーパー、ブルー相、 タッチパネル用技術など様々な報告があった。特にブルー相におい ては現在の問題である、ヒステリシス特性や駆動電圧の問題を解決 するような興味深い報告もあった。
(2011年6月8日掲載)
（H23-No.05） 第4分野　ディスプレイ
テーマ：PDP、3D関連
SID 2011 ショート速報
打土井 正孝（パナソニック株式会社）
会議名 ：The Society for Information Display International Symposium, Seminar and Exhibition
開催期間 ：2011年5月15日−20日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center（ロサンゼルス, CA, 米国）

*要　約*
　SID'11は、学会の規模としては回復傾向を継続した。PDPのセッシ ョンと3Dのセッションの一部に参加したので報告する。PDPでは、 現状の研究トピックスがデバイスのキー材料である保護層材料に絞 られた状況から、かなり特化したセッションになっていた。保護層 材料のブレークスルーにかなり近づいた。3Dのセッションも一部参 加したが、基礎から実用化まで幅広く研究され勢いがある。
(2011年6月15日掲載)
（H23-No.06） 第7分野　太陽光エネルギー
テーマ：太陽電池材料
E-MRS 2011 ショート速報
近藤　道雄（産業技術総合研究所）
会議名 ：The European Materials Research Society 2011 Spring Meeting,
E-MRS/MRS Bilateral Conference on Energy
開催期間 ：2011年5月10日−12日
開催場所 ：Congress Center (Niece、フランス)

*要　約*
　E-MRSは材料科学国際会議のヨーロッパ支部会議であり、例年ストラ スブルグで開催されている。アメリカの春、秋のMRS会議の欧州版で ある。今年度は、E-MRSとMRSが協力して行う、国際連携会議となって いる。
(2011年6月17日掲載)
（H23-No.07） 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：半導体材料・光デバイス
APWS 2011 ショート速報
石谷　善博（千葉大学　大学院工学研究科）
会議名 ：Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors
開催期間 ：2011年5月22日−26日
開催場所 ：鳥羽国際ホテル (鳥羽市、日本)

*要　約*
　APWSは日本学術振興会「ワイドギャップ半導体光・電子デバイス」 第１６２委員会とアジア諸国間で開催されていた会議が統合されて 一般投稿も募られる形となったものである。2003年に第１回が淡路 夢舞台国際会議場で開催されて以降、各国持ち回りとなり、今回が 第５回の会議である。窒化物、酸化物を初めとするワイドバンドギ ャップ系半導体のすべてを範疇に含む会議としての特色がある。 招待講演ではアメリカや欧州からも講演者が招かれ、各国の光デバ イス、電子デバイス、材料物性研究などの進展状況の把握ができる ものであった。窒化物では基板製作技術の進展とそれによるデバイ ス品質の向上、デバイス特性の向上によるアプリケーションの展開 など当該分野の一連の内用を含む密度の高いものであった。
(2011年6月17日掲載)
（H23-No.08） 第6分野　加工・計測
テーマ：レーザー技術
CLEO Europe 2011 ショート速報
藤田 雅之（レーザー技術総合研究所）
会議名 ：The European Conference on Lasers and Electro-Optics
開催期間 ：2011年5月22日−26日
開催場所 ：International Congress Center（Munich, ドイツ）

*要　約*
　CLEO Europeは2年おきに開催され、基礎から応用までをカバーする “World of Photonics Congress”（WoP）と呼ばれる巨大なイベント の一部となっている。米国で開催されるCLEOの欧州版であるが、最先 端の研究動向を取り入れつつも地道に自然科学を探求する研究発表が 多い。今回は、プレナリーで紹介されたアト秒科学の進展、固体レー ザ材料の将来、一般講演での導波路レーザ、CFRPのレーザ加工、フォ トニッククリスタルファイバ（PCF）を用いた白色光発生について報告 する。10年前は大がかりなテラワットレーザを使って白色光を発生さ せていたが、非線形性の強いPCFの登場で簡単に且つ安定に白色光が得 られるようになってきている。
(2011年6月22日掲載)
（H23-No.09） 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：光デバイス
IPRM 2011 ショート速報
山本 剛之（富士通研究所）
会議名 ：3rd International Conference on Indium Phosphide and Related Materials
開催期間 ：2011年5月22日−26日
開催場所 ：Maritim proArte Hotel (Berlin、ドイツ)

*要　約*
　IPRM2011は本年も化合物半導体材料の会議であるISCS2011と同時に 開催された。参加者は両会議合わせて460名程度だが、産業界からの 参加は以前より減っている印象である。光デバイス関連の発表では 量子ドットやナノワイアなどのナノ構造導入という少し材料・物理 に戻る方向と、集積度の向上という方向とに分かれてきている印象 が、通信用のデバイスについて特に感じられた。InP系のモノリシッ ク集積で複数の設計者のデバイスを一つのInPウェハ上に作製するEU のプログラムが開始している点が目を引いた。
(2011年6月24日掲載)
（H23-No.10） 第6分野　加工・計測
テーマ：レーザ微細加工
LPM 2011 ショート速報
岡本 康寛（岡山大学）
会議名 ：312th International Symposium on Laser Precision Microfabrication
開催期間 ：2011年6月7日−10日
開催場所 ：かがわ国際会議場およびサンポートホール高松 (高松市，日本)

*要　約*
　LPM2011はレーザによる微細加工を取り扱っており、スペシャルセッ ションとして液体と光の相互作用、レーザ誘起固着、ナノ材料とナノ 構造体が取り上げられるとともに、量子カスケードレーザ、超短パル スレーザを用いた透明体材料の相互作用とアプリケーション、太陽電 池製造工程におけるレーザプロセスのトレンドや今後の展開に関する 基調講演が行われた。レーザ光源としては超短パルスレーザを用いた ものが多く報告されており、世界各国でその可能性と実用展開が検討 されている。また、報告の対象としてはレーザを用いた直接描画法， 微細形状創製法，ナノ構造体を取り扱った等に関するものが比較的多 く、実用展開を見据えたアプリケーションの開発研究が熱を帯びてき ていた。
(2011年6月30日掲載)
（H23-No.11） 第5分野　ヒューマンインタフェース
テーマ：イメージセンサ関連
IISW 2011 ショート速報
太田 淳（奈良先端科学技術大学院大学）
会議名 ：2011 International Image Sensor Workshop
開催期間 ：2011年6月8日−11日
開催場所 ：函館大沼プリンスホテル (北海道、日本)

*要　約*
　L2年に1回開催されるイメージセンサに特化した唯一の会議である International Image Sensor Workshop （IISW）が北海道大沼国定 公園内の函館大沼プリンスホテルで6月8日〜11日の4日間にわたり開 催された。参加者は165人ほどで，4日間のワークショップでは、 微細画素、Time-Of-Flight，広ダイナミックレンジ化、Avalanche Photo-Diode、高速化など最新のイメージセンサに関するトピックス について89件（招待講演含む）の発表と活発な議論がかわされた。
(2011年7月21日掲載)
（H23-No.12） 第7分野　太陽光エネルギー
テーマ：太陽光発電
37th IEEE PVSCショート速報
菱川 善博（産業技術総合研究所）
会議名 ：37th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
開催期間 ：2011年6月19日−24日
開催場所 ：Washington State Convention Center（シアトル, WA, 米国）

*要　約*
　米国IEEE（電機電子学会）主催で毎年開催されている太陽光発電分野 の国際会議である。会議への参加者，発表論文数はそれぞれ1,830 名， 1,083件といずれも過去の同会議の中で最も多く，太陽光発電への関 心の高まりと裾野の広がりを反映している。2010年の太陽電池生産量 は約20GW（2,000万kW）に達し，会議でも生産・導入やPVシステムに 関する発表が増加している。結晶Si太陽電池を中心とする量産技術関 係の発表と共に，多接合太陽電池，有機薄膜太陽電池や化合物半導体 太陽電池等の新型太陽電池における変換効率の向上等，基礎研究に関 しても多くの成果が発表された。
(2011年7月21日掲載)
（H23-No.13） 第5分野　ヒューマンインタフェース
テーマ：防災応用
HCII 2011ショート速報
仲谷 善雄（立命館大学）
会議名 ：The 14th International Conference on Human-Computer Interaction
開催期間 ：2011年7月9日−14日
開催場所 ：Hilton Orlando Bonnet Creek (Orlando, FL, 米国)

*要　約*
　HCII2011は、61カ国から2,000人の参加があるヒューマンインタフェ ース関連の世界最大規模の国際会議で、人間とコンピュータとのイン タラクションに関して基礎研究から応用研究まで、完成された研究と いうよりは新たなアイデアを議論する場（口頭発表・ポスター発表） である。本稿では、防災に焦点を当てて報告する。報告者は防災・ リスク関連の企画セッションを開催したが、これが防災関係の唯一の セッションであった。ただ、安全関係では、道路・航空の安全を中心 に多くのセッションが企画されていた。また今回の特徴としては、 situation awarenessおよびuser experienceに関するセッションが 目立ったことで、両者ともに防災・リスク管理に関連する重要な視点 として注目したい。
(2011年7月26日掲載)
（H23-No.14） 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：窒化物半導体の進展
ICNS-9 ショート速報
山口 敦史（金沢工業大学）
会議名 ：The 9th International Conference on Nitride Semiconductors
開催期間 ：2011年7月11日−15日
開催場所 ：Scottish Exhibition and Conference Centre (グラスゴー、イギリス)

*要　約*
　ICNS-9は、参加者が約1,000名という大規模な国際会議となった。 光デバイスの話題としては、紫外LED、白色LED、緑色レーザ、太陽電池、 量子ドット単一光子光源など様々なものがあったが、紫外LEDに関する 発表が増え、AlGaN系材料の結晶成長、物性評価、デバイス開発の全て が近年目覚ましく発展している様子がうかがえた。非極性面上への開 発が有望視されていた緑色レーザ開発は、c面上での開発がかなり進ん だことにより、注目度が下がった感がある。その他にも、GaN基板開発 などの分野で興味深い発表があった。
(2011年7月27日掲載)
（H23-No.15） 第6分野　加工・計測
テーマ：生体光学
ECBO 2011 ショート速報
石井 克典（大阪大学）
会議名 ：The 9th International Conference on Nitride Semiconductors
開催期間 ：2011年5月22日−26日
開催場所 ：International Conference Centre Munich(ミュンヘン、ドイツ)

*要　約*
　ECBO 2011はOCT、DOT、光音響、多光子顕微鏡に関する演題が非常に 多かった。近年の生体光学分野のホットトピックスである光音響イ メージングに関して多くの報告があり、光音響増感剤および多波長 励起を利用した高コントラスト化が一般的となりつつある。一方、 測定対象は小動物が多く、今後ヒトにどのように応用していくか、 キラーアプリの探索が重要なポイントである。光線力学治療の Combined Therapyやレーザー治療を支援する診断技術など、臨床上 今後注目すべき話題も散見された。
(2011年7月27日掲載)
（H23-No.16） 第5分野　ヒューマンインタフェース
テーマ：人工現実感・複合現実感応用
HCII 2011ショート速報
石井 裕剛（京都大学）
会議名 ：The 14th International Conference on Human-Computer Interaction
開催期間 ：2011年7月9日−14日
開催場所 ：Hilton Orlando Bonnet Creek (Orlando, FL, 米国)

*要　約*
　HCII2011 では、人とコンピュータとのインタラクションに関する 基礎研究から応用研究まで1,354件の口頭発表と241 件のポスター 発表があった。本稿では、著者が主に聴講した人工現実感・複合現 実感(VMR：Virtual and Mixed Reality)のセッションについて報告 する。VMR関連では約90件の発表があったが、特に日本の研究者ら による、感覚間相互作用を応用した多様な香りや味を提示する研究、 多感覚超臨場感体験システムに関する研究、デジタル博物館に関す る研究の発表等が存在感を示していた。
(2011年8月15日掲載)
（H23-No.17） 第3分野　光メモリ・情報処理
テーマ：光記録関連
ISOM/ODS '11 ショート速報
小出 大一（日本放送協会）
会議名 ：Joint International Symposium on Optical Memory & Optical Data Storage 2011 (ISOM/ODS '11）
開催期間 ：2011年7月17日−20日
開催場所 ：Marriott Kauai Beach Resort（Kauai,HI,米国）

*要　約*
　ISOM/ODSは、毎年日本（アジア）中心に開催されるISOMと、アメリカ 中心に開催されるODSが、3年に1回ハワイで合同開催される最大の光 メモリ国際会議である。分野は、ホログラム記録、マイクロホログラム、 多層記録、近接場光記録など多岐にわたり、企業以外にも大学からの 発表も目立ち、次世代技術を模索する会議となった。参加者数は減少 傾向にあったが、各社各団体が集まり、会議や会議の合間にも活発 に議論する様子が見られ、ポストブルーレイとなる次世代の本命技術 に参加者の関心の高さが伺えた。
(2011年8月15日掲載)
（H23-No.18） 第3分野　光メモリ・情報処理
テーマ：ホログラフィック光メモリ
ISOM/ODS '11 ショート速報
的場 修（神戸大学）
会議名 ：Joint International Symposium on Optical Memory & Optical Data Storage 2011 (ISOM/ODS '11）
開催期間 ：2011年7月17日−20日
開催場所 ：Marriott Kauai Beach Resort（Kauai,HI,米国）

*要　約*
　本年は、ISOMとODSの２つのメジャーな光メモリの国際シンポジウ ムが3年に１度の形でジョイントシンポジウムとして、ハワイ州カウ アイ島にて開催された。約1/3の発表件数を占めるホログラフィック メモリに関しては、ページデータを記録再生するページ型メモリと ビット型メモリの発展系としてのマイクロホログラムの2つに大別さ れる。ページ型及びビット型メモリに共通して、記録容量を増加さ せるために、従来の振幅情報に加えて位相情報を付加することが試 みられている。本報告では、この２つのタイプのホログラフィック 光メモリの研究動向について報告する。
(2011年9月29日掲載)
（H23-No.19） 第5分野　ヒューマンインタフェース
テーマ：ユニバーサルデザイン
HCII 2011　ショート速報
渡辺 昌洋（NTTサイバーソリューション研究所）
会議名 ：The 14th International Conference on Human-Computer Interaction (HCII 2011)
開催期間 ：2011年7月9日−14日
開催場所 ：Hilton Orlando Bonnet Creek (Orlando, FL, 米国)

*要　約*
　仲谷先生の報告（防災関連：国際会議速報H23-No.13）、石井先生の 報告（人工現実感・複合現実感応用：国際会議速報H23-No.16）に引 き続き、HCII 2011 について報告する。本稿では、主として、ユニバ ーサルデザインと関連する、UAHCI (Universal Access of Human Computer Interaction) のセッションについて報告する。UAHCIの発表 数は258件とHuman Computer Interaction（以下HCI）の発表数の284件 の次に多く、全体の約19％を占め、この分野への関心が高いことがうか がわれた。特に高齢者研究はUAHCIのセッション以外でも見られ、日本 だけでなく世界中で研究が行われているテーマである。本稿では特に印 象に残った発表について報告する。
(2011年9月29日掲載)
（H23-No.20） 第7分野　太陽光エネルギー
テーマ：バルク結晶シリコン太陽電池関連
26th EU PVSEC　ショート速報
大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
会議名 ：The 26th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition
開催期間 ：2011年9月5日−9日
開催場所 ：CCH Congress Center Hamburg (ハンブルグ, ドイツ)

*要　約*
　バルク結晶Si太陽電池の低コスト化、高効率化に向け、様々な側面 から取り組みが行われており、特に、エミッター形成プロセス、表面 電極形成技術、a-Si/c-Siヘテロ接合セル（いわゆるHITセル）の高効 率化において進歩が感じられた。一方、ワイヤーソーでのウェハー化 工程における薄型化およびカーフロス低減については大きな進展が見 られず、また、多くの機関で行われているHITセルの裏面電極化につ いても、その優位性を主張できる特性がまだ得られておらず、技術的 な壁に直面していると感じた。
(2011年10月11日掲載)
（H23-No.21） 第2分野　光通信・ネットワーク
テーマ：光アクセス
ECOC 2011ショート速報
甲斐 雄高（富士通研究所）
会議名 ：37th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 ：2011年9月18日−22日
開催場所 ：PALEXPO (ジュネーブ, スイス)

*要　約*
　ECOC2011における光アクセス関連のトピックスを報告する。 10G-EPONやXG-PONの標準化によるTDM-PON関連技術の議論が一段落し たことを背景に、その次の世代の光アクセス方式についての発表が 相次いだ。例年のトレンドを踏襲した形で、WDM-PON関連技術、LR (Long Reach)-PON関連技術、OFDMやOCDMA等の次世代変調方式を用 いたPON関連技術、移行を睨んだ既存TDM-PONとのハイブリッド技術、 さらなる低消費電力化を目指すGreen Access関連技術、これらをキ ーワードとした報告が行われた。
(2011年10月11日掲載)
（H23-No.22） 第2分野　光通信・ネットワーク
テーマ：光ネットワーク
ECOC 2011ショート速報
古川 英昭（NICT）
会議名 ：37th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 ：2011年9月18日−22日
開催場所 ：PALEXPO (ジュネーブ, スイス)

*要　約*
　ECOC2011の光ネットワーク関連では、ElasticやFlexible、Gridless などをキーワードとした、波長グリッドに縛られずに波長資源を最 大限活用するためのエラスティック光ネットワーク技術に関する講 演が数多く行われ、ホットトピックとなっている。波長資源制御ア ルゴリズムの提案だけでなく、ハードウェア実装方法の提案やネッ トワーク実験など、データプレーン寄りの報告が増えたことが特徴 であった。また、光伝送の制限要因や機器の電力を考慮した Impairment-Aware、Power-Awareや、近年注目を集めているOpen-Flow プロトコルの光ネットワークとの連携という新しいネットワーク制 御技術などが報告された。
(2011年10月11日掲載)
（H23-No.23） 第2分野　光通信・ネットワーク
テーマ：基幹伝送
ECOC 2011ショート速報
菊池 信彦（日立製作所）
会議名 ：37th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 ：2011年9月18日−22日
開催場所 ：PALEXPO (ジュネーブ, スイス)

*要　約*
　ECOC2011は光ファイバ通信関連で欧州第一の規模の国際学会であり、 本年は1,200人を越える参加者が集まった。基幹伝送関連の講演は、 並列６セッションのうちおよそ1/3と本学会で大きな割合を占める。 本年は100G伝送の実用化を目前に、コヒーレント検波とデジタル信 号処理を組み合わせた光多値伝送方式、およびその周辺技術が多くの セッションで取り上げられた。また偏波等を活用した高効率多値伝送 方式、マルチモードファイバやマルチコアファイバを用いた空間多重 大容量伝送が大きな話題となった。
(2011年10月11日掲載)
（H23-No.24） 第2分野　光通信・ネットワーク
テーマ：光ファイバ
ECOC 2011ショート速報
松尾 昌一郎（フジクラ）
会議名 ：37th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 ：2011年9月18日−22日
開催場所 ：PALEXPO (ジュネーブ, スイス)

*要　約*
　第37回ECOCにおける光ファイバ関連のトピックスを紹介する。 OFCからの流れをうけ、Multi core fiberおよびfew mode fiber、 それらを伝送路として用いた伝送実験が多数発表された。Few mode fiberを用いたモード多重伝送用の光増幅技術として、EDFAおよび ラマン増幅が発表されたが印象深い。また、結合型のmulti core fiberの評価結果が初めて報告された。
(2011年10月11日掲載)
（H23-No.25） 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：光無機材料・デバイス
ECOC 2011ショート速報
藤澤 剛（NTT）
会議名 ：37th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 ：2011年9月18日−22日
開催場所 ：PALEXPO (ジュネーブ, スイス)

*要　約*
　2011年9月開催のECOCにおいて報告された、光デバイス関連の動向を まとめる。多値変調、コヒーレント光通信関連では、送信側デバイ スの報告は少なかったものの、集積型コヒーレントレシーバの報告 が多くなされた。シリコンフォトニクス関連の発表では、変調器や PDなど高度に集積化された大規模光集積回路や、化合物半導体アク ティブ素子との集積化に関する報告が多くなされた。また、数は多 くないものの、近年、光ファイバ、システムの分野で研究の盛んな 空間分割多重技術用光デバイスの報告がなされた。
(2011年10月12日掲載)
（H23-No.26) 第7分野　太陽光エネルギー
テーマ：化合物薄膜太陽電池
26th EU PVSEC ショート速報
中田 時夫（青山学院大学）
会議名 ：第26回太陽光発電欧州会議
（26th European Photovoltaic Solar Energy Conference）
開催期間 ：2011年9月5日−9日
開催場所 ：CCH国際会議場（ハンブルグ、ドイツ）

*要　約*
　ソーラーフロンティア社（日本）は、30cm×30cmサイズのサブモジ ュールで変換効率17.2％を達成すると共に、多結晶シリコン太陽電池 に匹敵する変換効率18％の可能性を示唆した。また、EMPA（スイス） はポリイミド箔上で470℃という低温で変換効率18.7％を達成した。 さらに、ZSW(独)はCdフリーCIGS太陽電池の世界記録を更新し、変換 効率19.1％（所内測定）を得た。また最近、Inフリーを特長とした Cu2(ZnSn)(S,Se)4 （CZTSと略す）関連の論文数が急増した。
(2011年10月21日掲載)
（H23-No.27) 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：光無機材料・デバイス
8th GFPショート速報
藤方 潤一（光電子融合基盤技術研究所）
会議名 ：8th International Conference on Group IV Photonics
開催期間 ：2011年9月14日−16日
開催場所 ：The Royal Society (ロンドン、英国)

*要　約*
　GFP2011の参加数は年々増加しており、国別発表件数は開催国の英国 が最も多く、続いて日本であった。個別デバイスに関しては、光変 調器および受光器に関して40Gbps高速動作実証が報告され、変調器 に関してはslow light効果による高効率化の実証なども行われて来 ている。また、III-V材料との実装技術やグレーティングカップラー によるチップ間インターコネクションなども、要素技術として着実 に進展してきていることが報告され、光集積回路の早期実現が期待 される。
(2011年10月31日掲載)
（H23-No.28) 第1分野　光無機材料・デバイス
テーマ：赤外・ミリ波・テラヘルツ関連
IRMMW-THz 2011 ショート速報
諸橋　功（独立行政法人　情報通信研究機構）
会議名 ：The 36th International Conference on Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves
開催期間 ：2011年10月3日−7日
開催場所 ：Hyatt Regency Houston (ヒューストン、TX、米国)

*要　約*
　ミリ波・赤外・テラヘルツ領域の国際会議であるIRMMW-THz 2011に 参加し、最新技術を調査した。今回は500件程度の講演があり、 光源やデバイス開発、分光やイメージングなどの各種応用など多岐 に渡る講演がなされた。その中でも、量子カスケードレーザ、メタ マテリアル、イメージング（トモグラフィ）、医療応用の中で筆者 が気になった講演について報告する。
(2011年11月10日掲載)
（H23-No.29) 第6分野　加工・計測
テーマ：レーザ加工
ICALEO 2011 ショート速報
鷲尾 邦彦（パラダイムレーザーリサーチ）
会議名 ：30th International Congress on Applications of Lasers & Electro-Optics
開催期間 ：2011年10月23日−27日
開催場所 ：Hilton located in the WALT DISNEY WORLD Resort (Orlando、FL、米国)

*要　約*
　ICALEOは、LIA（米国レーザ協会）の主催により年１回開催されるレ ーザ加工分野で世界最大級の国際会議である。会議参加者数は、2007 年のピークにはまだ回復していないものの、2008年以来過去4回の中 では最大の523名となった。日本からの参加者数及び講演件数は前年 に比べて激減したが、欧州（とくに独・英・仏）及び中国からの参加 者数及び講演件数が急増しており、レーザ加工分野への日本の取り組 みの立ち遅れが大いに懸念される。マクロ加工分野ではYb系高出力・ 高輝度レーザ（ファイバレーザ及びディスクレーザ）の応用開発が、 またミクロ加工分野では高出力超短パルスレーザの応用開発が進展し ている。
(2011年12月12日掲載)
（H23-No.30) 第7分野　太陽光エネルギー
テーマ：シリコン太陽電池関連
PVSEC-21ショート速報報
大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
会議名 ：The 21st International Photovoltaic Science and Engineering Conference
開催期間 ：2011年11月28日−12月2日
開催場所 ：ヒルトン福岡シーホーク（福岡、日本）

*要　約*
　バルク結晶Si系太陽電池のセッションでは、主に日本および韓国の メーカーからの、高効率ヘテロ接合セル、裏面ジャンクションセル に関する報告が注目を集め、さらなる高効率化に向けた技術の進展 を感じた。一方、中国におけるバルク結晶Si太陽電池モジュールの 生産過剰により、太陽電池メーカーが陥っている厳しい現状につい ても紹介された。薄膜Si太陽電池のセッションにおいては、単独の 特別セッションが組まれるなど、光閉じ込め技術に関する発表が数 多くなされた。
(2011年12月13日掲載)
（H23-No.31) 第3分野　光メモリ・情報処理
ホログラフィとその関連技術
IWH 2011 ショート速報
茨田 大輔（宇都宮大学）
会議名 ：International Workshop on Holography and related technologies 2011
開催期間 ：2011年11月16日−18日
開催場所 ：宇都宮大学陽東キャンパス アカデミアホール
（宇都宮市，日本）

*要　約*
　本会議は、ホログラフィック記録技術、ディジタルホログラフィ、 計算機合成ホログラムを中心としたホログラフィ全般と、ホログラ フィに関連する技術の最新研究発表が行われた会議である。ホログ ラフィック記録技術に関しては、データストレージへの応用を目的 とした技術とその記録媒体だけでなく、偏光ホログラフィに関する 基礎研究の報告がなされた。ディジタルホログラフィは主に顕微鏡 応用、計算機合成ホログラムは主に三次元表示装置への応用を目的 とした研究発表がなされた。
(2011年12月13日掲載)
（H23-No.32) 第7分野　太陽光エネルギー
テーマ：有機薄膜太陽電池
PVSEC-21ショート速報
中村 浩昭（出光興産株式会社）
会議名 ：The 21st International Photovoltaic Science and Engineering Conference
開催期間 ：2011年11月28日−12月2日
開催場所 ：ヒルトン福岡シーホーク（福岡、日本）

*要　約*
　PVSEC-21の有機薄膜太陽電池のセッションを聴講した。最高効率向上 に寄与する新しい材料の報告はなかった。特別セッションでは東レ、 住友化学、三菱化学、JX日鉱日石、などの有力化学企業がこれまでの 成果をまとまって講演した。住友化学は8％を越える効率を発表し、 三菱化学は10％を認証取得した。また、色素による増感や無機材料と のハイブリッドなど他の方式の技術との融合も成果を上げてきた。
(2011年12月21日掲載)
（H23-No.33) 第7分野：太陽光エネルギー
テーマ：有機薄膜太陽電池
2011 MRS Fall ショート報報
吉田 郵司（産業技術総合研究所）
会議名 ：2012 Materials Research Society Fall Meeting
開催期間 ：2011年11月28日−12月2日
開催場所 ：Hynes Convention Center（ボストン、MA、米国）

*要　約*
　有機薄膜太陽電池の変換効率10%に達した事が報告される等、実用化 に向けて発表件数および発表の質共に向上した大会であった。特に、 高性能かつ高安定化に向けた新規骨格によるドナーポリマーの開発、 Al電極を用いない高信頼性の逆構造型デバイス、再現性の良い金属酸 化物ナノ粒子分散液の塗布によるバッファ層形成、Ｒ２Ｒ製造技術の 高性能化かつ高速化に向けた種々の技術提案、加速試験による25年に 及ぶ長期寿命の可能性、等のインパクトの高い報告がなされた。
(2011年12月20日掲載)
（H23-No.34) 第8分野：光有機材料・デバイス
テーマ：有機半導体材料
2011 MRS Fall ショート速報
竹谷 純一（大阪大学産業科学研究所）
会議名 ：2012 Materials Research Society Fall Meeting
開催期間 ：2011年11月28日−12月2日
開催場所 ：Hynes Convention Center（ボストン、MA、米国）

*要　約*
　「Charge Generation/Transport in Organic Semiconductor Materials」 と題する本シンポジウムは、有機半導体のキャリア伝導機構と物質 開発の現状について概観するため、企画された。低分子及び高分子 の高移動度有機半導体のトランジスタ研究、特に最近注目度が高ま っている単結晶のトランジスタに関する議論やデバイス応用につい ての最先端の研究が紹介された。印刷可能な低分子有機半導体単結 晶の移動度は、10 cm2/Vsを超えており、また、高分子の両極性トラ ンジスタでホールと電子の移動度がいずれも1 cm2/Vs以上の値が得 られるなど、この分野の大きな進展が報告された。
(2011年12月28日掲載)
（H23-No.35) 第4分野：ディスプレイ
テーマ：OLED関連
2011 MRS Fall ショート速報
八尋 正幸（九州大学）
会議名 ：2012 Materials Research Society Fall Meeting
開催期間 ：2011年11月28日−12月2日
開催場所 ：Hynes Convention Center（ボストン、MA、米国）

*要　約*
　MRS Fall meeting（MRS）での有機EL（Organic Light-Emitting Diode：OLED）関連の発表は、Large-Area Processing and Patterning for Active Optical and Electronic Device と題したシンポジウム の中に組み込まれ、発表件数もポスター発表を含め十数件程度と少な いものであった。しかし、リン光に関する材料の進展は着々と進んで いる印象を受け、弱点であった青色リン光のホスト材料、電子輸送材 料の発表が目を引いた。また、高分子塗布OLED、マルチフォトンデバ イスに関する報告もあり、それぞれ実用化レベルに近づいていること を予感させる講演であった。
(2011年12月21日掲載)
（H23-No.36) 第7分野：太陽光エネルギー
テーマ：集光型太陽光発電
Workshop on NGCPV ショート速報
西岡 賢祐（宮崎大学工学部）
会議名 ：International Workshop on New Generation Concentrator Photovoltaic
開催期間 ：2011年12月3日
開催場所 ：ホテルメリージュ　(宮崎市、日本)

*要　約*
　New Generation Concentrator Photovoltaic (NGCPV)プロジェクト では、日本‐欧州の研究機関・企業がコンソーシアムを形成し、 国際的な枠組みのもとで、超高効率の太陽電池を利用した高効率集 光型太陽光発電システムの実現を目指して研究開発を推進している。 今回、プロジェクトの日本開催ミーティングとの同時開催ワークシ ョップとして、CPVについての日本および欧州のそれぞれの取り組み について講演が行われ、新しいコンセプトの集光システムや評価法に ついて議論された。
(2011年12月22日掲載)
（H23-No.37) 第4分野：ディスプレイ
テーマ：LCD、フレキシブルディスプレイ
IDW'11 ショート速報
長谷川 雅樹（メルク）
会議名 ：The 18th International Display Workshopsc
開催期間 ：2011年12月7日−9日
開催場所 ：Nagoya Congress Center (名古屋、日本）

*要　約*
　フレキシブルディスプレイ実現のための技術開発が着実に進んでいる。 有機半導体、酸化物半導体ともに特性は改善され、デバイス作製工 程も焼成温度が下がってきている。液晶ディスプレイ関連は、あい かわらず台湾、韓国からの発表が大勢を占めており、LCDの技術が 成熟していることを示していた。その中で、ブルー相は唯一、次世 代のLCDを担う技術として注目されており、多くの参加者を集めて いた。
(2011年12月22日掲載)
（H23-No.38) 第4分野：ディスプレイ
テーマ：3D関連
IDW'11 ショート速報
陶山 史朗（徳島大学）
会議名 ：The 18th International Display Workshopsc
開催期間 ：2011年12月7日−9日
開催場所 ：Nagoya Congress Center (名古屋、日本）

*要　約*
　IDW’11は、18回目の開催となる国際ディスプレイワークショップで ある。3D分野では昨年を上回る50件（口頭35件、ポスター15件）の 発表がなされた。
　二眼式／多眼式に関わる発表がほとんどを占め、ハードに関する発表 が例年通り多く見受けられる。しかし、これに匹敵して、この3年ほ ど見られる傾向ではあるが、3D表示におけるクロストークや3D画質、 ピント調節などに関する発表が多く見られるようになっている。実用 化へ向けた研究開発が、ハード面からだけでなく視覚的な面からも活 発化しており、かつこれが継続していることが示唆される。ユーザー の視点に立っているとも考えられ、かつ標準化の上からも好ましい傾 向と考える。
(2012年 1月 6日掲載)
（H23-No.39) 第4分野：ディスプレイ
テーマ：PDP関連
IDW'11 ショート速報
打土井 正孝
会議名 ：The 18th International Display Workshopsc
開催期間 ：2011年12月7日−9日
開催場所 ：Nagoya Congress Center (名古屋、日本）

*要　約*
　IDW '11のPDP-WS（PDP関連の発表）に参加した。IDWのPDP-WSでの主 な話題は、今後の低電力化のキーとなる低駆動電圧で高発光効率の 新保護膜組成、保護膜の構造、それを使いこなすためのプロセスの 発表が主体となっている。並行して、高発光効率と広い駆動マージ ン（アドレス、維持などの適正駆動電圧範囲）のためのセル構造、 関連材料特性、駆動法（駆動波形）の研究が進んでいる。また、デ ジタルサイネージ用の超大画面を対象としたPTA（プラズマチューブ アレイ）、従来のセル構造を踏襲した大画素サイズ3〜9mmピッチの発 表が行われた。高画質化や３D関連の発表はなかった。
(2012年 2月10日掲載)
（H23-No.40) 第4分野：ディスプレイ
テーマ：3次元ディスプレイほか
SPIE/IS&T Electronic Imaging ショート速報
掛谷 英紀（筑波大学）
会議名 ：IS&T / SPIE Electronic Imaging 2012
開催期間 ：2012年1月22日−26日
開催場所 ：Hyatt Regency San Francisco Airport (Burlingame, CA, 米国)

*要　約*
　IS&T / SPIE Electronic Imaging 2012で発表された研究成果のうち、 Stereoscopic Display & Application Conferenceを中心に紹介する。 新たな概念に基づく2D-3D変換、多層パネルを用いた光線再生技術の 最新の成果、およびホログラムとインテグラルイメジングを組み合わ せた新たな裸眼立体表示法に関する研究発表について報告する。
また、Plenary Talk、Panel Discussion、招待講演およびデモセッシ ョンで目を引いた展示物についても紹介する。
(2012年 2月14日掲載)
（H23-No.41) 第6分野： 加工・計測
テーマ：光診断・OCT関連
Photonics West BiOS 2012 ショート速報
近江 雅人（大阪大学大学院医学系研究科）
会議名 ：SPIE Photonics West BiOS 2012
開催期間 ：2012年1月21日−1月26日
開催場所 ：The Moscone Center (San Francisco, CA, 米国)

*要　約*
　IBiOS 2012では、光コヒーレンストモグラフィー（Optical Coherence Tomography; OCT）、光音響、多光子顕微鏡をはじめとして、 組織診断や細胞分析などに貢献する光診断・イメージング技術に関す る研究報告や皮膚科・形成外科、口腔外科、耳鼻咽喉・頭頸部科、 呼吸器科、循環器科、脳神経外科、骨生物学、神経科学、歯科、眼科 、腫瘍科（光線力学診断・治療）などの治療分野に関する研究が報告 された。OCTに関する発表が全体の2割弱を占め、技術開発を超えて臨 床診断への応用研究が多く目立ってきている。本報告では、これら診 断・治療分野に幅広く用いられているOCTを中心に最新の研究動向を紹 介する。
(2012年 2月16日掲載)
（H23-No.42) 第6分野： 加工・計測
テーマ：最先端固体レーザー技術
ASSP ショート速報
古瀬 裕章（レーザー技術総合研究所）
会議名 ：OSA Advanced Solid State Photonics 2012
開催期間 ：2012年1月29日−2月1日
開催場所 ：Rancho Bernardo Inn (San Diego、CA、米国)

*要　約*
　アメリカ光学会(Optical Society of America, OSA)のトピカルミー ティングであるAdvanced Solid State Photonics (ASSP) に参加し、 最先端のレーザー光源技術を調査した。ASSPは毎年開催で、2012年は アメリカ，サンディエゴにおいて1月29日−2月1日の間、開催された。 今年度の発表内容はコヒーレントビーム結合が中心であり，その他近 赤外レーザー，Thin Diskレーザー、ファイバーレーザー等，多くの光 源開発に関する最新の報告が行われた。
(2012年 2月23日掲載)
（H23-No.43) 第6分野： 加工・計測
テーマ：概観・光治療関連
Photonics West BiOS 2012 ショート速報
石井 克典（大阪大学 大学院工学研究科）
会議名 ：SPIE Photonics West BiOS 2012
開催期間 ：2012年1月21日−1月26日
開催場所 ：The Moscone Center (San Francisco, CA, 米国)

*要　約*
　BiOS 2012は光音響法、多光子顕微鏡、光コヒーレンストモグラフィ ーに関する演題が非常に多かった。分子プローブやナノ粒子といっ たイメージングの要素技術に関するセッションも盛況であった。光 治療に関する演題の絶対数は少ないが、診療科としては眼科、耳鼻 咽喉科、脳神経外科・神経科学のセッションが賑わっていた。光治 療における注目すべき話題は抗原‐抗体反応を利用したがんの特異 的な診断と光免疫療法を融合した手法であろう。光線力学治療にお いては、がん阻害剤との併用療法や穿刺型治療など、光線力学治療 の適応拡大に向けた臨床上今後注目すべき話題も散見された。
(2012年 3月23日掲載)
（H23-No.44) 第2分野： 光通信・ネットワーク
テーマ：光アクセス
OFC/NFOEC 2012 ショート速報
野田 雅樹（三菱電機）
会議名 ：Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and　National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC)
開催期間 ：2012年3月4日−3月8日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center (Los Angeles, CA, 米国)

*要　約*
　標準化が完了した10G-EPON、XG-PONについては、バジェット拡大に よる長延化・多分岐化技術や、WDMとの融合による大容量化にスポッ トが当てられ、より柔軟な光アクセス網の構築に向けて着実に研究 が進められていることが伺えた。一方、次世代PONシステム（NG-PON2） を指向した報告も相次ぎ、TDM-PONやWDM-PON、OFDMA-PON、OCDMA-PON など、多様な多重化技術による高速・大容量化について引き続き精 力的な研究がなされ、今後の更なる進展が期待される。
(2012年 3月23日掲載)
（H23-No.45) 第2分野： 光通信・ネットワーク
テーマ：光ファイバ
OFC/NFOEC 2012 ショート速報
高橋 正典（古河電気工業）
会議名 ：Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and　National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC)
開催期間 ：2012年3月4日−3月8日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center (Los Angeles, CA, 米国)

*要　約*
　OFC/NFOEC2012における光ファイバ関連のトピックスを報告する。 近年の傾向を受け、大容量伝送を実現するための伝送路用光ファイ バ技術であるマルチコアファイバ、マルチモードファイバに関する 講演、議論が活発に行われた。特に、これらのファイバを用いたシ ステムが将来実際の伝送路に導入される可能性についてワークショ ップ、シンポジウム、ランプセッション等で議論された点が印象深 い。また、微細構造ファイバ、高非線形ファイバ、光増幅用ファイ バについても最新の研究報告がなされた。
(2012年 3月23日掲載)
（H23-No.46) 第2分野： 光通信・ネットワーク
テーマ：基幹伝送
OFC/NFOEC 2012 ショート速報
安部 淳一（日本電気）
会議名 ：Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and　National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC)
開催期間 ：2012年3月4日−3月8日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center (Los Angeles, CA, 米国)

*要　約*
　3月4日〜8日、米国にて開催されたOFC/NFOEC2012について、基幹伝 送技術関連の注目トピックスを紹介する。基幹系伝送では、デジタ ルコヒーレント技術の高度化が進み、周波数利用効率向上を目指し た多値変調方式技術や各種信号歪み補償技術などによる高密度・大 容量伝送の報告が数多く行われた。中でもマルチモード・マルチコ アファイバを用いた空間多重伝送では、1本のファイバによる伝送容 量がついに300Tb/sを超えるなど、光通信の新たな展開を感じさせる 発表が相次いで報告された。
(2012年 3月27日掲載)
（H23-No.47) 第2分野： 光通信・ネットワーク
テーマ：通信用光デバイス・モジュール
OFC/NFOEC 2012 ショート速報
田中 有（富士通研究所）
会議名 ：Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and　National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC)
開催期間 ：2012年3月4日−3月8日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center (Los Angeles, CA, 米国)

*要　約*
　OFC/NFOEC2012に参加した。データセンターや次世代ハイエンドサー バへの適用を狙った光インターコネクト技術に関する多くの報告が メイントピックの一つである。VCSELをベースとした高速、大容量光 リンク技術の学会報告、展示が相次いた。その一方、シリコンフォ トニクス技術は落ち着いた印象があるが、変調器の高速動作化が進 み、また新しい光源への期待が高まるいくつかの報告があった。さ らには実装技術やファンドリ展開などの重要性が広く認識された会 議であった。
(2012年 3月27日掲載)
（H23-No.48) 第2分野： 光通信・ネットワーク
テーマ：光ネットワーク
OFC/NFOEC 2012 ショート速報
大原 拓也（NTT未来ねっと研究所）
会議名 ：Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and　National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC)
開催期間 ：2012年3月4日−3月8日
開催場所 ：Los Angeles Convention Center (Los Angeles, CA, 米国)

*要　約*
　キャリアネットワークへ本格導入されつつある100G OTN（Optical Transport Network）に関しては、OTNのバックボーンネットワークへ の展開シナリオ、相互接続実験結果、OTNスイッチングのメリット等 についての報告があった。また、光ネットワークの適用先のひとつと して、データセンタ間ならびにデータセンタ内への適用が近年注目を 集めているが本会議でも盛り上がりを見せていた。さらに将来の光ネ ットワークとして研究が活発化しているElastic networkに関しては、 所要リソースの定量的比較や実際のネットワークトポロジを想定した 際のメリットに関する分析等の報告が目立った。

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