この事業は、競輪の補助を受けて実施いたします。
財団法人JKA  http://ringring-keirin.jp/

平成22年度 国際会議速報

(2011年 5月17日更新)
(2010年4月21日掲載)
(H22-No.1) 第1分野 光材料・デバイス

OFC2010 速報 [光材料・デバイス]
報告者: 高畑 清人(NTTフォトニクス研究所)
会議名 :Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC). (OFC/NFOEC2010)
開催期間 :2010年 3月21日−25日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego、米国)

*要 約*
 光デバイス分野のメイントピックは、Postdeadline Papersで集積型コヒーレントレシーバの発表が 4件連続したことに表れているように、昨年のOFC、ECOCに引き続き集積化技術であった。 DP-QPSK等の複雑な変調フォーマットに対応するために送受信器の部品点数は増え、 構成も複雑になっており、このような送受信器を小型、低コスト、低消費電力で実現するための 集積化技術への関心は非常に高いことが会議を通して感じられた。光源デバイスでは、 併設の展示会に出展されるような実用に近いデバイスの報告が目立った。シリコンフォトニクスの 分野はアクティビティの高さが感じられ、変調器を中心として幅広い技術が報告された。

(以上)

(2010年4月15日掲載)
(H22-No.2) 第2分野 光通信ネットワーク

OFC2010 ショート速報 [光ネットワーク関連]
報告者: 宮澤高也(独立行政法人 情報通信研究機構)
会議名 :The Optical Fiber Communication Conference and Exposition (OFC) and the National Fiber Optic Engineers Conference (NFOEC) 2010
開催期間 :2010年 3月21日−25日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, California, USA)

*要 約*
 OFC2010では、光ネットワーク関連講演のうち、ConvergenceやIntegrate、Hybridといった、 ネットワーク基盤や制御機構の統一化に関する報告が多くなされた。複数タイプのネットワーク技術を、 共通のプロトコルやインフラのもとで統一的に扱う動きが最近のホットトピックとなっている。また、 Googleをはじめ、流行のクラウドに関連した光ネットワーク技術もホットトピックであり、多くの研究者の 興味の対象となっている。クラウド化の流れで、データセンターが世界中に設置されてきていることから、 データセンターのための光ネットワーク基盤技術に関する報告があった。

(以上)

(2010年4月15日掲載)
(H22-No.3) 第2分野 光通信ネットワーク

OFC/NFOEC 2010 ショート速報[光アクセス関連]
報告者: 縣 亮(KDDI研究所)
会議名 :The 2010 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Converence (OFC/NFOEC 2010)
開催期間 :2010年 3月21日−25日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, California, USA)

*要 約*
 TDMベースの10G PONに関しては、学術的側面より実用化を意識した報告が相次ぎ、標準化と あわせて各社とも商用化に向けた装置開発が着実に進んでいることが窺えた。一方、次世代PON方 式としては、昨年のECOCに引き続きWDM-PON技術に関する報告が目立った。ユーザあたり 10G化をターゲットとした報告が、韓国勢のみならず欧州からも相次いだ。その他、PONの 低消費電力化や長距離化を指向する流れがある一方、OFDMやCDMA技術を用いたPON方式に ついては昨年と比べ報告数が減少し、10G TDM-PONの次にターゲットとするテーマを各社模索 している印象であった。

(以上)

(2010年4月15日掲載)
(H22-No.4) 第2分野 光通信ネットワーク

OFC/NFOEC 2010 ショート速報[光ファイバ関連]
報告者: 松尾 昌一郎((株)フジクラ)
会議名 :The 2010 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Converence
開催期間 :2010年 3月21日−25日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, CA, USA)

*要 約*
 OFC/NFOEC2010の概要のうち、光ファイバ関連のトピックスを紹介する。伝送用ファイバとして Aeff拡大型PCFがポストデッドラインに採択されるとともに、将来ファイバの一つの姿として マルチコアファイバの報告がなされた。一方、微細構造ファイバや増幅用ファイバにおいては、 製造方法に言及した報告が多くなされ、今後の技術の広がりを期待させるものであった。

(以上)

(2010年4月28日掲載)
(H22-No.5) 第2分野 光通信ネットワーク

OFC/NFOEC 2010 ショート速報[基幹伝送]
報告者: 斧原聖史(三菱電機)
会議名 :The 2010 Optical Fiber Communication Conference and Exposition and the National
開催期間 :2010年 3月21日−25日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego、CA、米国)

*要 約*
 3月に米国サンディエゴにて開催されたOFC/NFOEC 2010について、基幹系伝送システム関連の トピックスを紹介する。基幹系伝送システムでは、昨年12月に100Gb/sシステムの商用化が始まり、 学会の興味は既にbeyond 100Gb/sに向いている。ポストデッドラインペーパーでは、ディジタル・ コヒーレント技術による100Gb/sの伝送実験結果が多数報告され、今後の更なる大容量化の期待を 予感させるものであった。

(以上)

(2010年6月8日掲載)
(H22-No.6) 第1分野 光材料・デバイス (マイクロオプティクス)

Photonics Europe 2010 速報
宮下隆明(リコー)
会議名 :Photonics Europe 2010:Micro-Optics
開催期間 :2010年4月12日−16日
開催場所 :The Square Conference Ctr.,(Brussels,Belgium)

*要 約*
 Photonics EuropeはSPIEが主催する「応用光学」に焦点をあわせた学会で、今回は 19の異なる分野でのセッションが並行して開催され、全体で約1300件の発表が行われた。  メタマテリアル、ナノフォトニクス、フォトニッククリスタル、バイオフォトニクス、 マイクロオプティクス、光学設計、マイクロ・ナノ計測、シリコンフォトニクス、 レーザ(半導体、固体、高出力)、有機フォトニクス、太陽エネルギーフォトニクス、 光学センシング、量子光学、非線形光学などの分野に分かれて並行して議論が行われた。  筆者は、マイクロオプティクスのセッション(発表論文は約100件)に出席したので、 その概要を報告する。

(以上)

(2010年5月28日掲載)
(H22-No.7) 第6分野 デジタルホログラフィ関連

Digital Holography and Three-Dimensional Imaging ショート速報
早崎芳夫(宇都宮大学)
会議名 :Biomedical Optics and 3-D Imaging: OSA Optics & Photonics Congress 2010
開催期間 :2010年4月11日−14日
開催場所 :The Deauville Beach Resort Hotel, (Miami, Florida, USA)

*要 約*
 本会議はOptical Society of America(OSA)の主催するトピカルミーティン グの1つで あり、Biomedical Optics(BIOMED)とDigital Holography and Three-Dimensional Imaging (DH)の共催である。BIOMEDの2つのパラ レルセッションとDHのシングルセッション、およびポスターセッションで 構成された。
本速報では DHに関して報告する。特に、その主要トピックスである ディジタルホログラフィの進展とその応用に関して報告する。

(以上)

(2010年4月30日掲載)
(H22-No.8) 第5分野 ヒューマンインターフェース

CHI2010ショート速報[ヒューマンインタフェース関連]
中谷桃子(NTTサイバーソリューション研究所)
会議名 :The 28th Annual CHI Conference on Human Factors in Computing Systems
開催期間 :2010年4月11日−15日
開催場所 :Hyatt Regency Atlanta (Atlanta、米国)

*要 約*
 CHI2010は、HCI(Human Computer Interaction)分野で、世界トップレベルの国際会議として 有名である。本年度は、非常に厳しい採択率(22.45%)の中、200を超えるセッションに渡り4日間 様々な発表が行われ、参加者は38カ国から2389名と非常に盛況な会議となった。Twitter、 Facebookなどのソーシャルメディアを扱った研究や、医療・福祉系のテーマが目立ち、 研究手法としてはインタビューや観察を元にした質的な分析を行なう研究が多く見られた。 本報告では、会議全体を概観した後、質的研究法を用いた研究をいくつかピックアップして 紹介する。

(以上)

(2010年6月15日掲載)
(H22-No.9) 第4分野 ディスプレイ

SID 2010 ショート速報
五十嵐礼二 (メルク梶j
会議名 :48th SID INERNATIONAL SYMPOSIUM, SEMINAR & EXHIBITION
開催期間 :2010年5月23日−28日
開催場所 :Washington State Convention Center,(Seattle, WA, USA)

*要 約*
 今回のExhibitionでは、3Dディスプレイに各社力を入れた展示を行なっ ていた。特に、初めてOCB(Optically Compensated Bend)モードを搭載 したshutter glassが展示されており、視聴した印象としては、斜視時の 画像ボヤケが改善されたと感じた。
Symposiumでは、VA(Vertical Alignment)モードに関する新規技術として、 PS(Polymer-Stabilized)-VAや、光配向膜を用いた製造技術の発表が されていた。特に光配向膜を用いたGen 10パネルの発表には、大きな 関心が寄せられていた。また、PNLC(Polymer Network Liquid Crystal) を用いた60inch情報表示ディスプレイは、高い透過度を示し、カラー動画 の表示も可能であり、新規ディスプレイ技術として、非常に興味を引かれた。

(以上)

(2010年6月22日掲載)
(H22-No.10) 第6分野 加工・計測

LPM 2010 ショート速報
岡本康寛 (岡山大学)
会議名 :11th International Symposium on Laser Precision Microfabrication
開催期間 :2010年6月7日-10日
開催場所 :International Congress Center (Stuttgart, Germany)

*要 約*
 今回のLPM2010はシュトゥットガルトレーザ会議(SLT)、およびレーザ材料 加工システムソリューションの国際専門見本市(LASYS)と同時開催されて おり、基礎から産業応用まで幅広い分野の講演や展示が行われていた。 超短パルスレーザを用いたプロセス開発と製造ラインへの適応事例、ナノ 構造の創成とそのアプリケーション、太陽電池製造工程におけるレーザ プロセスの展開とその方向性等に関する報告等があった。
また、本年はレーザが誕生してから50年にあたることから、「レーザの50年」 と題した特別セッションが開かれ、レーザの誕生からレーザ発振器および アプリケーション開発の歴史に関する特別講演もあり、興味深い内容で あった。

(以上)

(2010年6月28日掲載)
(H22-No.11) 第1分野 光材料・デバイス

LPM 2010 ショート速報
瀬川 徹(NTTフォトニクス研究所)
会議名 :Indium Phosphide and Related Materials
開催期間 :2010年5月31日−6月4日
開催場所 :高松シンボルタワー (香川県高松市)

*要 約*
 IPRMはInPとその関連材料の結晶成長やプロセス技術、および光デバイス や電子デバイスへの応用技術に関する国際会議である。 今回の第22回会議は、GaAsなど化合物半導体関連の技術を扱う国際会 議であるISCS(37th International Symposium on Compound Semiconductors) と初めて併催されて行われた。どちらか一方の会議に参加登録すれば 二つの会議を自由に聴講することが可能であり、またBanquetなどの Social eventsも共同で行われたため、参加者にとって人的ネットワークの 構築を含め、自らの見識を広めるには極めて有益な会議であった。 多値位相変調など新たな変調フォーマットに対応した光送受信器や 40/100GbE用光送受信器、さらには高速光スイッチなど、構成が複雑で 部品点数が多い高機能デバイスを小型、低コスト、低消費電力で実現 するための集積化技術への関心が高い会議であった。

(以上)

(2010年7月9日掲載)
(H22-No.12) 第1分野 光材料・デバイス

IISSLED 2010 ショート速報
三宅 秀人(三重大学)
会議名 :The 8th International Symposium on Semiconductor Light Emitting Devices (ISSLED2010)
開催期間 :2010年5月16日−21日
開催場所 :北京大学 Lake View Hotel (北京, 中国)

*要 約*
 ISSLEDは,GaN系窒化物半導体を中心にZnOなども含む半導体発光 デバイスに関する国際シンポジウムで,エピタキシャル成長からデバイス まで幅広く議論された。特に今回の会議における中心の話題は,青色LED と緑色LEDでの非極性面/半極性面結晶の高品質化とデバイス特性, 光取り出し構造と,InGaN系を中心に太陽電池応用を目指した結晶成長 とデバイス構造である。また,深紫外LEDについては日本からの発表を 中心に結晶性の向上に伴う高出力化が報告された。ZnOやナノ結晶, スピントロニクス等の発表も数件ではあるが報告された。

(以上)

(2010年7月14日掲載)
(H22-No.13) 第6分野 加工・計測

Nanophotonics 2010 ショート速報
杉坂純一郎(宇都宮大学)
伊藤雅英(筑波大学)
会議名 :The 4th International Conference on Nanophotonics
開催期間 :2010年5月30日−6月3日
開催場所 :Tsukuba International Congress Center (つくば,日本)

*要 約*
 The 4th International Conference on Nanophotonicsは2007年より年一回 開催されている国際会議で,微細加工技術,フォトニック結晶,プラズモニ クス,メタマテリアル,ナノフォトニクス応用といった,ナノスケールの光技術 に関する研究発表が行われている。今年も各国の研究機関から280件の 独創的な研究報告が行われた。ナノスケールという困難な領域にもかかわ らず多くの発表が試作・実験結果を踏まえたものであり,ナノフォトニックデ バイスの実用化を視野に入れた多くの研究発表があった。また,バイオ・ ヘルスケア・太陽光エネルギー・環境といった新しい応用分野を見据えた 研究も活発に議論された。

(以上)

(2010年7月16日掲載)
(H22-No.14) 第7分野 太陽光エネルギー

IEEE-PVSC ショート速報
[バルク結晶シリコン太陽電池関連]
大平圭介(北陸先端科学技術大学院大学)
会議名 :35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
開催期間 :2010年6月20日−25日
開催場所 :Hawai'i Convention Center, (Honolulu, HI, 米国)

*要 約*
 本年のIEEE PVSC(IEEE 太陽光発電専門家会議)は、総参加者数1,394人、 米国 ハワイ州のホノルルで開催され、太陽電池の基礎技術である結晶シリコン、 有機/シリコン/化合物薄膜等、さまざまな分野で報告があった。 バルク結晶Si系(結晶シリコン太陽電池)のセッションでは、欧米の企業、 研究機関からの、単結晶シリコン太陽電池に関する高いセル特性の報告があり、 また、プロセス技術がさらに成熟に向かっている印象を受けた。一方、量産を 見据えた新規プロセス技術に関する研究も数多く報告され、高効率化と低コスト化 の両面からの、発電コスト低減に向けた大きな流れが感じられた。

(以上)

(2010年7月16日掲載)
(H22-No.15) 第7分野 太陽光エネルギー

IEEE-PVSC ショート速報
[有機薄膜太陽電池]
當摩哲也(産総研・JSTさきがけ)
会議名 :35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
開催期間 :2010年6月20日−25日
開催場所 :Hawai'i Convention Center, (Honolulu, HI, 米国)

*要 約*
 プレナリーはkonarka社のA. Zedda氏とノーベル賞受賞者のA. J. Heerger氏 によって行われ、高分子塗布系有機薄膜太陽電池のエネルギーペイバックタイム (ETP) は0.19年との計算結果を公表した。また、有機薄膜太陽電池の心配事で ある耐久性の問題についても、新規バリア材料を導入した場合、加速試験に おいて4000時間以上安定、つまり計算で20年以上の耐久性を持つことが報告された。 開発が遅れていた低分子蒸着系でも、ドイツのドレスデン大学を核とした 産・学・官連合により、1.1 cm2のタンデムセルで7.7%の効率がフランフォーファ により測定され、1 cm2以上の公式セルで世界最高記録であることが公表された。

(以上)

(2010年7月27日掲載)
(H22-No.16) 第2分野 光通信ネットワーク
テーマ:基幹伝送
OECC 2010 ショート速報
福知清(日本電気梶j
会議名 :15th OptoElectronics and Communication Conference
開催期間 :2010年7月5日−9日
開催場所 :札幌コンベンションセンター(札幌市)

*要 約*
 OECC2010は、15回目となる毎年開催のアジア・オセアニア地域における 光通信およびエレクトロニクスに関する国際会議である。今年は札幌で 開催され、中国・韓国・台湾からの参加者が増えて総数530名以上と活気 のある会議となった。広くシステムからデバイスまでのセッションが設けら れ、基幹伝送系ではデジタル信号処理を用いたコヒーレント多値信号伝 送やOFDMなどのトピックに加え、伝送路ファイバ研究の展開、高密度伝 送における距離制限の課題、ポスト100Gb/sイーサネットなどが活発に議 論された。

(以上)

(2010年7月27日掲載)
(H22-No.17) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:ナノ・シリコンフォトニクス
OECC 2010 ショート速報
田中拓男(理化学研究所)
会議名 :15th OptoElectronics and Communication Conference
開催期間 :2010年7月5日−9日
開催場所 :札幌コンベンションセンター(札幌市)

*要 約*
 この国際会議は、アジア・オセアニア地域における光通信および光エレク トロニクスに関する会議である。15回目の今年の会議は札幌で開催され、 本はもちろん中国、韓国、台湾などを中心に500名以上の参加者が集ま り活気のある会議になった。光通信関連では,コヒーレント多値信号伝送 やOFDM、テラビット/秒通信などのトピックスを中心にシステムとデバイ スの両面から報告された。それ以外の新しい光デバイス、光機能材料に ついても活発な発表と議論が行われた。

(以上)

(2010年7月29日掲載)
(H22-No.18) 第7分野 太陽光エネルギー
テーマ:化合物薄膜太陽電池関連
IEEE-PVSC ショート速報
中田時夫(青山学院大学)
会議名 :35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
開催期間 :2010年6月20日−25日
開催場所 :Hawai'i Convention Center, (Honolulu, HI, 米国)

*要 約*
 今回の会議は米国からの発表が際立ち、オバマ政権のグリーン・ニュー ディール政策下における米国企業の勢いを強く感じた。とくにGlobal Solar Energy (GSE)社のCIGS(Copper Indium Gallium DiSelenide)製造 技術の進展ぶりは衝撃的ですらあった。本会議の特長はフレキシブル・ セル/モジュールの変換効率改善に関する発表が多く、大変興味深い 内容であった。一方、昭和シェル石油(株)からサブモジュールの変換 効率改善が発表され注目を集めた。新たな流れとしては、装置製造 企業からの発表があり、CIGS太陽電池分野における米国発のターン キービジネス開始を印象付けた。

(以上)

(2010年7月29日掲載)
(H22-No.19) 第7分野 太陽光エネルギー
テーマ:薄膜シリコン太陽電池
IEEE-PVSC ショート速報
松井卓矢(産業技術総合研究所)
会議名 :35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
開催期間 :2010年6月20日−25日
開催場所 :Hawai'i Convention Center, (Honolulu, HI, 米国)

*要 約*
 薄膜シリコン太陽電池のセッションでは、アモルファスシリコンや微結晶 シリコン、薄膜多結晶シリコンなどフィルム状のシリコン材料を用いた太陽 電池について議論される。今回は、これら薄膜シリコン材料の基礎的な物 性研究から最新の太陽電池デバイス・モジュールの結果にいたるまで幅 広い内容のトピックスがあった。特に、薄膜多結晶シリコン太陽電池の性 能の進展やアモルファスシリコンの光劣化現象の解明に向けた新しいア プローチ、10%の安定化変換効率を達成した大面積(1.1×1.4 m2)アモル ファスシリコン/微結晶シリコンタンデム型太陽電池モジュールの報告 などに注目が集った。

(以上)

(2010年8月9日掲載)
(H22-No.20) 第6分野 加工・計測
テーマ:光学設計と製造
ODF '10 ショート速報
大瀧達朗(潟jコン)
会議名 :7th International Conference on Optics-photonics Design and Fabrication
開催期間 :2010年4月19日−21日
開催場所 :パシフィコ横浜 会議センター(横浜市)

*要 約*
 この国際会議ODFはレンズや光学素子の設計と製造技術を中心とし、 1998年から2年毎の開催である。参加290名、発表251件。専門性が高い ので海外との人のつながりが出来やすい。発表では偏光を考慮した結像 と回折光学素子の分野が目立つ。波長以下の構造による光の制御も最 新分野であろう。偏光を加味したより広い光学シミュレーション技術が進ん でいると感じた。初日のレセプションではこの分野の著名な方も打ち解けて 和やかな雰囲気であった。日本のお家芸といえる光学設計と製造分野で 主導的立場を保てるようにしたい。

(以上)

(2010年8月9日掲載)
(H22-No.21) 第3分野 光メモリ・情報処理
テーマ:光メモリ
ODS 2010 ショート速報
志村 努(東京大学)
会議名 :Optical Data Storage Topical Meeting 2010
開催期間 :2010年5月23日−26日
開催場所 :University Memorial Center / University of Colorado at Boulder), (ボールダー、コロラド州、米国)

*要 約*
 本年のODS(光情報記録に関する国際会議)は米国コロラド州ボールダー のコロラド大学内のメモリアル・センターにて開催された。近年のdata storage(情報記録)技術は、ハードディスク(HDD)と半導体メモリ(SSD)が 優勢で、光メモリの研究開発環境は厳しい状況にあるが、その影響はこの 会議にも及んでいる。その中でおのずとトピックスは将来技術に関するも のが中心となっていた。一般には光ディスクの弱点ばかりがあげつらわれ ている感があるが、HDDやSSDも比較的遠い将来の技術に関しては実は 楽観視はできない状況にあり、今が光ストレージ技術の踏ん張りどころで ある、という意思が多くの参加者から感じられた。

(以上)

(2010年9月17日掲載)
(H22-No.22) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:シリコンフォトニクス
GFP 2010ショート速報
秋山 傑(光電子融合基盤技術研究所/PETRA)
会議名 :7th IEEE International Conference on Group IV Photonics
開催期間 :2010年9月1日−3日
開催場所 :Friendship Hotel (北京、中国)

*要 約*
 例年と同様、主として光インターコネクト用途の、光源、変調器、受光器、 パッシブ導波路などのSi基板上コンポーネントに対する研究成果が個別 に報告された。アクティブ・デバイスでは、いずれのコンポーネントも、まだ、 いろいろな材料・基本構造が並行して検討されている。光源と受光器では Ge材料とIII-V材料ハイブリッド方式の両方が検討されており、変調器では キャリア・プラズマ効果に加えポリマ材料のEO効果、また、共振器構造の 利用などが検討されている。今回はGe材料のアクティブ・デバイスへの活用 が目を引き、特にGeからの直接遷移発光については、2件の発表があり、 今後の進展も期待される。

(以上)

(2010年9月17日掲載)
(H22-No.23) 第5分野 ヒューマンインタフェース
テーマ:ヒューマンインタフェース
11th IFAC/HMS ショート速報
仲谷善雄(立命館大学)
会議名 :The 11th IFAC/IFIP/IFORS/IEA Symposium on Analysis, Design, and Evaluation of Human-Machine Systems
開催期間 :2010年8月31日−9月3日
開催場所 :Phenix conference center (Valenciennes、フランス)

*要 約*
 第11回IFAC-HMSシンポジウムがフランス北東部、ドイツに近いリール 地方のValenciennesで4日間開催された。産業分野での理論や応用を 中心に、機械と人間の関係を幅広く扱っており、今回は31セッション、 96件の発表があった。特に、空港の地上交通を仮想的な管制塔で監視 するというVirtual Towerに関するセッションは、目新しく興味深い。 本報告では、会議全体を概観した後、Virtual Towerの報告をするとともに、 いくつかの個別研究について紹介する。

(以上)

(2010年9月29日掲載)
(H22-No.24) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:光材料・デバイス
IRMMW-THz 2010ショート速報
清水直文(NTT マイクロシステムインテグレーション研究所)
会議名 :The 35th International Conference on Infrared, Millimeter and Terahertz waves
開催期間 :2010年9月5日−10日
開催場所 :Rome、イタリア

*要 約*
 赤外線からテラヘルツ波、ミリ波までにいたる電磁波の発生・伝播 ・検出、デバイスから応用までの広い領域の研究を対象とする国際会 議、The 35th International Conference on Infrared, Millimeter and Terahertz waves (IRMMW-THz 2010)がイタリア、ローマで9月5日 から10日まで開催された。会議参加者は約700名、633件の発表があった。 例年に比べて、イメージング用検出器に関連する論文の数の多さが目を 引いた。また、テラヘルツ波を含む電磁波を使った文化財の調査に関す る研究を発表するがセッションが、今年の会議で初めて独立して設けら れ、ポスタープレゼンテーションと合わせて、11件の発表があった。

(以上)

(2010年10月12日掲載)
(H22-No.25) 第2分野 光通信・ネットワーク
テーマ:光ファイバ
ECOC 2010 ショート速報
武笠和則 (古河電気工業)
会議名 :36th European Conference and Exhibition on Optical Communications
開催期間 :2010年9月18日−23日
開催場所 :Lingotto Congress and Exhibition Centre (トリノ、イタリア)

*要 約*
 2010年の9/18(日)から9/23(木)にわたり、イタリアのトリノに おいて、ECOC2010が開催された。日曜日のWorkshop、月曜日の Plenary-Talkから、将来の大容量伝送を実現する為の伝送用光 ファイバ技術に関する講演/議論が行われ、伝送用光ファイバ技 術の研究が、再び盛り上がりを見せているのを感じた。また、 特殊性能を実現する為の微細構造ファイバ/Nanoファイバや、 具体的な応用が期待できる高非線形ファイバ/ファイバレーザー 用ファイバに関しても、最先端の研究報告がなされた。

(以上)

(2010年10月12日掲載)
(H22-No.26) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:光材料・デバイス
ECOC 2010 ショート速報
秋本良一 (産業技術総合研究所)
会議名 :36th European Conference and Exhibition on Optical Communications
開催期間 :2010年9月18日−23日
開催場所 :Lingotto Congress and Exhibition Centre (トリノ、イタリア)

*要 約*
 光デバイス分野の発表では、多値変調方式やODFM方式といった スペクトル利用効率を重視した次世代コヒーレント光通信技術 に関連する変調・復調デバイスの研究報告が数多くなされ、ここ 数年来の研究動向を反映したものであった。40GbE/100GbE向け デバイスでは、日本の研究機関から直近のマーケットを見据えた 完成度の高い送受信デバイスの報告が多く見られた。シリコンフ ォトニクス関連では、Ge材料のレーザ発振が報告され注目を集め ていた。

(以上)

(2010年10月12日掲載)
(H22-No.27) 第2分野 光通信・ネットワーク
テーマ:光ネットワーク
ECOC 2010 ショート速報
関屋元義 (Fujitsu Laboratories of America)
会議名 :36th European Conference and Exhibition on Optical Communications
開催期間 :2010年9月18日−23日
開催場所 :Lingotto Congress and Exhibition Centre (トリノ、イタリア)

*要 約*
 36th ECOC2010がイタリアTorinoで開催された。日本からの出席 者200人を含む1111人が参加する大規模なものであった。増大する トラフィックに対応し、単に伝送容量の拡大ではなく、帯域やエ ネルギーをいかに有効に活用することができるかという観点で光 ネットワークに注目が集まっている。伝送特性を考慮した光パス 計算を用いたネットワークの動的な制御など本年も数多く報告さ れた。

(以上)

(2010年10月14日掲載)
(H22-No.28) 第2分野 光通信・ネットワーク
テーマ:光アクセス
ECOC 2010 ショート速報
栖川 淳(日立製作所)
会議名 :36th European Conference and Exhibition on Optical Communications
開催期間 :2010年9月18日−23日
開催場所 :Lingotto Congress and Exhibition Centre (トリノ、イタリア)

*要 約*
 ECOC2010で発表された光アクセス関連のトピックスを報告する。 WDM-PON関連では、Colorless ONU向け送信レーザーの改良やその制 御方法等に関する報告や、80Gbps〜100Gbpsの大容量化、延伸化等を 実証する報告が行われた。TDM-PON関連では、10G-EPONやXG-PON の標準を背景にした10Gbps PON向け光デバイスやLSIに関連する報告 が行われた。PON長距離化関連では、バースト用光アンプの性能向上 やコスト増を抑えた延伸化実現の報告が目立ち始めた。また、次世 代光アクセス関連では、WDM-PONに加え、波長割当を動的に変更する WDM/TDM-PON方式やTDM/CDMA方式等に関する報告が行われた。

(以上)

(2010年10月14日掲載)
(H22-No.29) 第2分野 光通信・ネットワーク
テーマ:基幹伝送
ECOC 2010 ショート速報
森田 逸郎(KDDI)
会議名 :36th European Conference and Exhibition on Optical Communications
開催期間 :2010年9月18日−23日
開催場所 :Lingotto Congress and Exhibition Centre (トリノ、イタリア)

*要 約*
 第36回となるECOCがイタリアのトリノで開催された。基幹系伝送シ ステムを対象とした超高速・大容量伝送技術関連については、最近 では一般化したデジタル・コヒーレント受信技術をベースとした伝 送システムの高性能化の検討が数多く報告され、100Gシステム、 および、その次の超100Gシステムに向けて活発に議論された。

(以上)

(2010年10月21日掲載)
(H22-No.30) 第6分野 加工・計測
テーマ:レーザ加工
ICALEO 2010 ショート速報
森田 逸郎(KDDI)
会議名 :9th International Congress on Applications of Lasers & Electro-Optics
開催期間 :2010年9月26日−9月30日
開催場所 :Anaheim Marriott (Anaheim,CA,米国))

*要 約*
 ICALEOは、LIA(米国レーザ協会)の主催により年1回開催されるレーザ 加工分野で世界最大級の国際会議である。今年のプレナリーセッション のメインテーマは環境保護およびクリーンエネルギーであり、LMF会議で も太陽電池などクリーンエネルギー関連の材料・デバイスへのレーザ加工 に関して多くの講演があった。LMP会議では数kW級の高出力ファイバレ ーザやディスクレーザなどを用いた溶接分野の講演件数が多いのに対し て、LMF会議では、超短パルスレーザ(ピコ秒およびフェムト秒)並びに ナノ秒レーザなどを用いたアブレーション関連の講演件数が多かった。
なお、Arthur L. Schawlow Award記念昼食会では、 レーザ生誕50周年 を記念して、レーザ関連のノーベル受賞者2名による講演がなされた。

(以上)

(2010年10月25日掲載)
(H22-No.31) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:光デバイス・ナノ結晶
IWN 2010 ショート速報
菊池 昭彦(上智大学)
会議名 :International Workshop on Nitride Semiconductors
開催期間 :2010年9月19日−9月24日
開催場所 :Tampa Marriott Waterside Hotel & Marina, (Tampa, 米国)

*要 約*
 本会議は窒化物半導体に関する最大級の国際ワークショップであり、 幅広い分野にわたる12のテクニカルセッションに分かれて発表と討論が 行われた。筆者が主に出席した光デバイスとナノ構造の各セッションでは、 半極性/非極性面上の青〜緑色光デバイスや紫外線LEDの最近の進 展状況が報告され、LEDのドループ現象やLDの劣化機構など未解決の 課題も論じられた。ナノ結晶分野は、選択成長による位置制御技術や 電流注入LEDが複数の機関から報告され、デバイス応用を目指した研究 段階に入りつつある。また、ピコ秒高出力青色レーザやテラヘルツ光源、 熱電変換素子等の新規デバイスも報告され、活発な議論が交わされた。

(以上)

(2010年11月19日掲載)
(H22-No.32) 第3分野 光メモリ・情報処理
テーマ:多層/近接場光ディスク
ISOM'10 ショート速報
鳴海 建治(パナソニック)
会議名 :International Symposium on Optical Memory 2010
開催期間 :2010年10月24日−10月28日
開催場所 :Parkview Hotel (花蓮、台湾)

*要 約*
 本年のISOM’10(国際光メモリシンポジウム)は台湾・花蓮のパーク ビューホテルにて開催された。各社・研究機関から発表された技術は、 多層ディスク・ホログラム・薄型ディスク・近接場記録など多岐にわたっ ていた。このことは次世代の本命技術が模索されている段階にあること をうかがわせた。また招待講演では、光メモリに関連するコア技術を 他分野に応用する発表が複数なされた。 本速報では特に、Blu-ray Discベースの多層ディスクとSIL近接場記録 ディスクの分野に関する発表についてピックアップして報告する。

(以上)

(2010年11月19日掲載)
(H22-No.33) 第3分野 光メモリ・情報処理
テーマ:体積記録
ISOM'10 ショート速報
田中 拓男(理化学研究所)
会議名 :International Symposium on Optical Memory 2010
開催期間 :2010年10月24日−10月28日
開催場所 :Parkview Hotel (花蓮、台湾)

*要 約*
 この国際会議は,光メモリとその関連技術に関する会議で,年1回開催 されている.2010年の会議は台湾の花蓮(Hualien)で開催され,日本は もちろん中国,韓国,台湾などを中心に参加者が集まり,活気のある会 議となった.会議では,次世代の大容量光メモリ技術から,コンポーネント, 信号処理技術,記録材料などのトピックスを中心にその研究成果が報告 された.それ以外にも光メモリ技術の応用展開として,バイオ,メディカル 技術等への応用提案についても活発な発表と議論が行われた.

(以上)

(2010年11月26日掲載)
(H22-No.34) 第6分野 加工・計測
テーマ:オプトメカトロニクス
ISOT 2010 ショート速報
早崎 芳夫(宇都宮大学)
会議名 :ISOT 2010 International Symposium on Optomechatronic Technologies
開催期間 :2010年10月25日−10月27日
開催場所 :Metro Toronto Convention Centre, Toronto, Canada

*要 約*
 本シンポジウムは,その名に示されるように,オプティクスとメ カトロニクスの融合領域であるオプトメカトロニクスに関する会議 である.開催地のRyerson大学を主催として,Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)とOptical Society of America (OSA), Industrial Electronics Society (IES)の協賛で開催された. 主なトピックスは,マシンビジョン,ビジョンベースマシン制御, 光制御マシン,光計測,レーザー加工であり,主に,機械システム における光計測,光を制御するためのオプトメカトロニックなデバイ スやシステム,光による駆動制御を含むデバイスやシステムの研究が 報告され,ビジョンや光計測に関連する研究に加え,光エネルギーを うまく使った構造変化や機械的駆動に変換したシステムの報告が関心 を呼んだ.

(以上)

(2010年12月17日掲載)
(H22-No.35) 第4分野 ディスプレイ
テーマ:3D関連
IDW '10 ショート速報
陶山 史朗(徳島大学)
会議名 :ISOT 2010 International Symposium on Optomechatronic Technologies
開催期間 :2010年12月1日−3日
開催場所 :Fukuoka International Congress Center(福岡,日本)

*要 約*
  IDW’10は,17回目の開催となる国際ディスプレイワークショップ である.3D分野では昨年を上回る41件(口頭25件,ポスター16件)の 発表がなされた.二眼式/多眼式に関わる発表が大勢を占めており, かつ3D表示の質に関する発表も一昨年,昨年に引き続いて多数見受け られたことを考えると,実用化へ向けた研究開発の活発化が継続して いることが示唆される.3D表示装置そのものに加え,画質,左右眼の クロストーク,および3D表示に関連するHuman Factorなどの発表が多 くなっている.

(以上)

(2010年12月17日掲載)
(H22-No.36) 第4分野 ディスプレイ
テーマ:全般、PDP関連
IDW '10 ショート速報
打土井 正孝(パナソニック)
会議名 :ISOT 2010 International Symposium on Optomechatronic Technologies
開催期間 :2010年12月1日−3日
開催場所 :Fukuoka International Congress Center(福岡,日本)

*要 約*
  IDW'10のPDP-WS(PDP関連の発表)と、会期前(11/29-30)と会期後 (12/4)に行われたIEC/TC110(IEC国際標準化会議/FPDデバイスの標 準化)WG4(PDPの標準化会議)とPT62629(プロジェクト会議)に参 加した。IDWのPDP-WSでの主な話題は、保護膜材料を中心にした発光 効率向上と、超高精細への取り組みが話題となっていた。保護膜関連 では、電子放出機能の研究が主で、現状のMgOに変わる新材料の研究 とその実用化に関するものと、MgO単結晶で顕著なエキソ電子放出 (自己励起による遅れ電子放出)のメカニズムに関するものが中心 になっていた。新たな現象も紹介され、蛍光体へのシリカコートに よる発光効率の向上、蛍光体や保護層表面への金属ナノ粒子散布 による発光効率向上や、放電制御などが報告され、今後新たな展開 が期待できる。今後の低電力化(発光効率向上)や、4k x 2kをはじ めとするパネル精細度向上につながる技術が多数発表された。 IEC/TC110会議ではWG4(PDP)と、PT62629(3D裸眼式測定法のアド ホック会議)が開催された。

(以上)

(2010年12月17日掲載)
(H22-No.37) 第4分野 ディスプレイ
テーマ:フレキシブルディスプレイ
IDW '10 ショート速報
長谷川 雅樹(メルク)
会議名 :ISOT 2010 International Symposium on Optomechatronic Technologies
開催期間 :2010年12月1日−3日
開催場所 :Fukuoka International Congress Center(福岡,日本)

*要 約*
  電子書籍が日本でも脚光を浴びる中、真の電子ペーパーの形態と して期待されるフレキシブルディスプレイの今年のトピックスは、 低温処理が可能な半導体材料であった。中でも酸化物半導体のセッ ションでは、その発明で有名な東工大の細野先生が招待講演で講演 した後も会場で活発な議論を繰り広げ、会場が大いに盛り上がった。 ただ、酸化物半導体は、まだ300℃以上の熱処理が必要であり、フレ キシブルディスプレイへの応用には時間がかかると思われた。

(以上)

(2010年12月17日掲載)
(H22-No.38) 第4分野 ディスプレイ
テーマ:OLED関連
IDW '10 ショート速報
江面 知彦(九州大学)
会議名 :ISOT 2010 International Symposium on Optomechatronic Technologies
開催期間 :2010年12月1日−3日
開催場所 :Fukuoka International Congress Center(福岡,日本)

*要 約*
  今回のIDW'10ではOLED1〜AMD5/OLED6のOLED(Organic Light Emitting Diode;有機EL)関連のセッションに参加した。発表者に限らず会場内では 活発な議論が行われていたのが特に印象的だった。ディスプレイメーカー からの興味深い報告も多数あり、実用化に向けて材料からプロセス、 信頼性評価まで多くの点で進展がみられた。IGZOなどの透明酸化物半導 体をOLED駆動用TFTに用いた報告も数多く見られるようになり、方向性が 決まってきたと感じた。また、フレキシブルOLEDの発表もポスターを含め 多く見受けられたが、信頼性の点でまだ課題が残る。

(以上)

(2010年12月24日掲載)
(H22-No.39) 第3分野 光メモリ・情報処理
テーマ:多層/近接場光ディスク
IWHM&D 2010 ショート速報
的場 修(神戸大学)
会議名 :International Workshop on Holographic Memories and Display 2010
開催期間 :2010年11月15日−16日
開催場所 :東京大学 生産技術研究所(東京,日本)

*要 約*
  本年のIWHM&D2010(ホログラフィックメモリとディスプレイシン ポジウム)は東京大学生産技術研究所にて開催された。今回で4回目 の会議であるが、会議でのセッション構成は、ホログラフィックメモ リ、ホログラフィックディスプレイにデジタルホログラフィーが加 わった。ホログラフィックメモリに関しては、ビット型メモリの発展 系としてのマイクロホログラムにおいて実装システムの構築に関する 進展があり、ページ記録型メモリでは位相情報を用いた記録容量向上 について複数の報告があった。ディスプレイ及びデジタルホログラフ ィーではホログラフィー技術を核として、情報ディスプレイ及び高速 次元計測への応用が着実に進んでいることが伺えた。

(以上)

(2011年1月5日掲載)
(H22-No.40) 第2分野 光通信・ネットワーク
テーマ:光ファイバ
Photonics 2010 ショート速報
廣岡 俊彦(東北大学)
会議名 :The 10th International Conference on Fiber Optics and Photonics
開催期間 :2010年12月11日−15日
開催場所 :Indian Institute of Technology Guwahati (Guwahati、インド)

*要 約*
 2年に一度インドで開催される国際会議International Conference on Fiber Optics and Photonicsが今回10回目を迎え、Photonics 2010 の名称のもと、インド北東部アッサム州の地方都市グワハティにおい て5日間にわたり開催された。本会議は、インド全土ならびにその近隣 より研究者や学生が集うだけでなく、世界各国から著名な研究者を多 数招聘し、数多くの基調講演、招待講演を企画している点が特徴である。 テーマは基礎から応用に至るまでフォトニクス全般にわたるが、本稿で は筆者が聴講したセッションの中から光ファイバに関連する発表を中心 に紹介する。

(以上)

(2011年1月5日掲載)
(H22-No.41) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:光デバイス
Photonics 2010 ショート速報
水本 哲弥(東京工業大学)
会議名 :The 10th International Conference on Fiber Optics and Photonics
開催期間 :2010年12月11日−15日
開催場所 :Indian Institute of Technology Guwahati (Guwahati、インド)

*要 約*
 インド東部の都市Guwahatiで開催された国際会議Photonics 2010の 発表論文のうち、光ファイバを含む光デバイス関連の講演内容を紹介 する。光デバイスに関しては、ナノフォトニクス、プラズモニクスな どのデバイス応用、フェムト秒レーザによる埋め込み導波路形成など の報告が印象的であった。また、光ファイバ関係では、フォトニック 結晶ファイバ及び希土類添加シリカファイバ、中赤外波長域への展開、 さらにバイオフォトニクスへの応用などが印象に残った。

(以上)

(2011年2月9日掲載)
(H22-No.42) 第6分野 加工・計測
テーマ:先進レーザー技術
Photonics West 2011 LASE ショート速報
藤田 雅之((財)レーザー技術総合研究所)
会議名 :SPIE Photonics West 2011
開催期間 :2011年1月23日−27日
開催場所 :Moscone Center (サンフランシスコ、米国)

*要 約*
 Photonics Westは5つの国際会議(BiOS、LASE、MOEMS-MEMS、 OPTO、GREEN PHOTONICS)の総称であり、巨大な展示会を併設してい る。今回は、主にレーザー光源開発/応用が報告されるLASEに参加した。 LASEの特徴として、NASAやアメリカの軍関係の発表が多い事があげら れる。空軍、陸軍、海軍それぞれが独自の高出力レーザーの研究開発 支援を行っており、その一部が垣間見れる貴重な機会である。 とてもすぐには実用化できない技術に挑戦しており興味深い。

(以上)

(2011年3月7日掲載)
(H22-No.43) 第6分野 加工・計測
テーマ:最先端固体レーザー技術
ASSP 2011 ショート速報
古瀬 裕章(レーザー技術総合研究所)
会議名 :OSA Advanced Solid State Photonics 2011
開催期間 :2011年2月13日−16日
開催場所 :Ceylan intercontinental hotel,(Istanbul, トルコ)

*要 約*
 アメリカ光学会(Optical Society of America, OSA)のトピカルミ ーティングであるAdvanced Solid State Photonics (ASSP) に出席し、 最先端のレーザー光源技術を調査した。ASSPは毎年開催で、2011年は トルコ,イスタンブールにおいて2月13日−16日の間、開催された。 会場が一か所の単一セッションで進められるのですべての講演を聴講 できる。発表内容は近赤外レーザー,中赤外レーザー,コヒーレント ビーム結合,非線形光源,超短パルス光源等,多くの光源開発に関す る最新の報告が行われた。

(以上)

(2011年3月25日掲載)
(H22-No.44) 第2分野 光通信ネットワーク
テーマ:光アクセス
OFC/NFOEC 2011ショート速報
鈴木 巨生 (三菱電機株式会社)
会議名 :The 2011 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference
開催期間 :2011年3月6日−10日
開催場所 :Los Angeles Convention Center(Los Angeles,CA,米国)

*要 約*
 2011年3月6日〜10日(米国)にて開催されたOFC/NFOEC2011における 光アクセス関連技術の注目トピックスを紹介する。光アクセスの主流 であるPON関連技術では、次世代PONの国際標準仕様(ITU-T/FSAN NG-PON2)の獲得を指向したOFDMA-PON、Coherent-PON、WDM-PON、 OCDMA-PON技術等が台頭し、これまでの中心であった高速TDM-PON技術 (10G-PON/EPON)に匹敵する勢いとなった。特に近年急速に進展する デジタルコヒーレント技術を用いたOFDMA-PONシステムでは、上り/下り 1.2Tbpsの超大容量PONシステムが世界で初めて報告され、光アクセス 系においてもテラビット級システムが登場した。

(以上)

(2011年3月25日掲載)
(H22-No.45) 第2分野 光通信ネットワーク
テーマ:光ネットワーク
OFC/NFOEC ショート速報
岡本 聡 (慶應義塾大学)
会議名 :The 2011 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference
開催期間 :2011年3月6日−10日
開催場所 :Los Angeles Convention Center(Los Angeles,CA,米国)

*要 約*
 OFC/NFOEC 2011では“ルーティング”が光ネットワーク関連で大き なウエイトを占めるキーワードとして取り上げられていた。Energy Efficient、Comutercom (Datacenter Network)、Flexible Network、 Impairments Aware Routingといったルーティングを取り扱うセッシ ョンが多数設けられた上、ポストデッドラインにおいて、Path Computation Element (PCE) Emulatorという、経路計算のためのソフ トウェア技術の論文が採択される画期的な出来事があった。

(以上)

(2011年3月25日掲載)
(H22-No.46) 第1分野 光材料・デバイス
テーマ:光デバイス・モジュール
OFC/NFOEC ショート速報
藤澤 剛 (NTTフォトニクス研究所)
会議名 :The 2011 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference
開催期間 :2011年3月6日−10日
開催場所 :Los Angeles Convention Center(Los Angeles,CA,米国)

*要 約*
 2011年3月に開催されたOFC/NFOECにおいて報告された、光デバイ ス関連の動向をまとめる。長距離系光通信用デバイス関連では、ポス ト100Gを見据えたコヒーレント光通信用デバイス、特に大規模集積化 した受信用光デバイスの報告が目立った。また、データ通信関連では、 光インターコネクション、データセンタ用途光デバイスの報告数が多 く、特に、シリコンフォトニクス関連の発表が相変わらず盛況であった。

(以上)

(2011年3月29日掲載)
(H22-No.47) 第2分野 光通信ネットワーク
テーマ:光ファイバ
OFC/NFOECショート速報
山本 義典(住友電気工業株式会社)
会議名 :The 2011 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference
開催期間 :2011年3月6日−10日
開催場所 :Los Angeles Convention Center(Los Angeles,CA,米国)

*要 約*
 OFC/NFOEC2011における光ファイバ関連の注目トピックスを紹介する。 伝送用ファイバ関連の報告数が最も多くいずれも盛況であったが、 ハイライトは、将来の大容量伝送を実現するための技術として、マル チコアファイバに大きな進展が見られたことである。また、低損失・ 低非線形ファイバなど他の伝送用ファイバにおいても実用を見据えた 検討が盛んに進められているのに加え、高非線形ファイバ・微細構造 ファイバ・増幅用ファイバについても、これまでに引き続き、特殊な 機能を活かした研究成果が多数報告された。

(以上)

(2011年3月29日掲載)
(H22-No.48) 第2分野 光通信ネットワーク
テーマ:基幹伝送
OFC/NFOECショート速報
佐野 明秀(NTT未来ねっと研究所)
会議名 :The 2011 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference
開催期間 :2011年3月6日−10日
開催場所 :Los Angeles Convention Center(Los Angeles,CA,米国)

*要 約*
 2011年3月6〜11日に米国ロサンゼルスにて開催されたOFC/NFOEC2011 における基幹系伝送システムに関する技術動向について報告する。 ポスト100Gに向けた大容量、長距離伝送のための様々な新規技術の提案、 実証が進み、1本のファイバで100 Tbit/sを超える超大容量伝送実験 が報告され、多数の注目を集めた。また、シングルモードファイバに おける伝送容量限界の克服に向けて、マルチコアファイバ、マルチモ ードファイバを用いた空間多重伝送の検討も活発化している。

(以上)

「主要な国際会議にみる先端光研究の動向調査」報告(詳細版)全文掲載


Copyright(C) OITDA All Rights Reserved.