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平成21年度「主要な国際会議にみる先端光研究の動向調査」報告

(2010年 3月 2日更新)
(2009年 4月24日掲載)
(H21-No.1)第1分野 光材料・デバイス

OFC/NFOEC 2009速報[光デバイス関連]
報告者:硴塚孝明 (NTTフォトニクス研)
会議名 :The 2009 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference (OFC/NFOEC 2009)
開催期間 :2009年3月22日−26日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, CA, 米国)

*要 約*
 ネットワークの大容量化に向け、多値変調、デジタルコヒーレント関連の技術が注目を集めている。 コヒーレント伝送関連のネットワークのセッションは盛況であり、光デバイスにおいても、多値変調用の ハイブリッド、モノリシック集積型変復調デバイスが多数報告された。40/100GbEに関しては、 標準化ドラフトを反映した送受信器の開発が進んでいる。シリコンフォトニクスにおいては、 SiGe受光素子の報告が多数行われた。いずれの分野においても集積化に向けた取り組みが 着実に進められている。

(以上)

(2009年 4月24日掲載)
(H21-No.2)第2分野 光通信ネットワーク

OFC/NFOEC 2009ショート速報[光アクセス関連]
報告者:中川 潤一(三菱電機株式会社)
会議名 :The 2009 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference (OFC/NFOEC 2009)
開催期間 :2009年3月22日−26日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, CA, 米国)

*要 約*
 2009年3月22日〜26日に米国サンディエゴにて開催されたOFC/NFOEC 2009の概要のうち, 光アクセス関連のトピックスを紹介する.IEEE802.3avにて標準化が進められている10G-EPONは キーデバイス開発からシステム検証まで幅広い報告が行われ大きな注目を集めた.大容量化, 長距離化を狙う次世代光アクセスシステムとしてWDM-PON,OFDMA-PON,Extended reach PONの 報告も多数行われ研究開発の堅調さが窺えた.また,光無線融合分野ではRoFによる ミリ波帯信号伝送技術の発表が盛んであり,今後のさらなる成長・拡大を予感させるものであった.

(以上)

(2009年 4月24日掲載)
(H21-No.3)第2分野 光通信ネットワーク

OFC/NFOEC2009ショート速報[基幹伝送]
報告者:佐野明秀(日本電信電話株式会社)
会議名 :The 2009 Optical Fiber Communication Conference and the National Fiber Optic Engineers Conference (OFC/NFOEC 2009)
開催期間 :2009年3月22日−26日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, CA, 米国)

*要 約*
 基幹伝送分野では近年、ディジタル・コヒーレント受信や光OFDMなど、ディジタル信号処理技術を 適用した光通信方式の検討が活発化しているが、今回の会議では伝送ファイバの非線形効果に 対する補償技術、あるいは多値化による周波数利用効率の向上など、ディジタル信号処理の 可能性を更に追及する動きが目立った。また、ポストデッドラインペーパーでは、ファイバ1本当たりの 最大伝送容量を更新する32 Tb/sの伝送実験や、光OFDMを用いた容量・距離積として最大の 97.3 Pb/s・kmの伝送実験の報告など、トップデータの更新が相次ぎ、多くの注目を集めた。

(以上)

(2009年 5月14日掲載)
(H21-No.4)第2分野 光通信ネットワーク

OFC/NFOEC2009ショート速報[光ネットワーク制御・アーキテクチャ]
報告者:曽根由明(NTT未来ねっと研究所)
会議名 :The Optical Fiber Communication Conference and Exposition / The National Fiber Optic Engineers Conference 2009.
開催期間 :2009年3月22日−26日
開催場所 :San Diego Convention Center (San Diego, CA, 米国)

*要 約*
 研究分野ではトランスペアレント光網,また,オペーク光網からトランスペアレント光網までの 中間ソリューションであるトランスルーセント光網に関する取組みが活発化し,制御技術や 設計技術が多数報告された。一方,キャリアのサービスについては,OTNベースの網構築による 設備コスト削減(AT&T)と,制御プレーンを利用したマルチベンダ化(Verizon),マルチレイヤ化(AT&T) サービスリードタイムの短縮(AT&T,Verizon)といった課題があることが報告された.

(以上)

(2009年 5月14日掲載)
(H21-No.5)第7分野 太陽光エネルギ

DSC-IC2009ショート速報
報告者:宮坂 力(桐蔭横浜大学)
会議名 :3rd International Conference on the Industrialisation of DSC(DSC-IC 2009)
開催期間 :2009年4月22日〜24日
開催場所 :Nara Prefectural New Public Hall(奈良、日本)

*要 約*
 色素増感太陽電池(DSC)の実用化に向けた研究開発の成果を情報交換する目的として、 DSCを実用化するDyesol社(オーストラリア)が企画して2006年に始まった会議である。 第3回目の本会議では、大阪大学の柳田祥三特任教授とペクセル・テクノロジーズ株式会社代表の 宮坂力(桐蔭横浜大学教授)の2名がオルガナイザーを務め、参加者約250名、研究発表38件を 集めて2日半の討論を行った。韓国から日本を超える35名の参加者があり、Gratzel教授を含め 西欧からも多くの発表があり、新規材料技術の紹介から、実用モジュールの製作、建設物への設置の 実証試験など、基礎から応用まで広範囲の情報交換が行われた。

(以上)

(2009年 6月 2日掲載)
(H21-No.6)第3分野 光メモリ・情報処理

ODS2009ショート速報
報告者:前田武志(科学技術振興機構)
会議名 :TThe Optical Data Storage 2009 (ODS2009)
開催期間 :2009年5月10日−13日
開催場所 :Buena Vista Palace Resort & Spa, Lake Buena Vista,(Florida, USA)

*要 約*
 光記録関係の国際会議の一つである、2009年のODSは経済危機と新型ウィルスの逆風の中に開催された。 参加者は例年の200名程度から70名に激減した。また、論文数も例年の100件近くから47件に減少し、 チューリアルを会議に繰り込み、なんとか会期を3日間とした。青色レーザを用いた光ディスクが出荷された後、 次世代の製品化が不透明の中、研究開発が停滞している状況が続いている。しかし、その中でも光メモリへの 期待は大きく、それに答えるべく将来を見据えた研究の発表が続くとともに、新規に参加した国と組織もある。

(以上)

(2009年 6月11日掲載)
(H21-No.7)第4分野 ディスプレイ

SID2009ショート速報[LCD関連]
報告者:桃井優一(LG Display(株) 日本研究所)
会議名 :47th SID INERNATIONAL SYMPOSIUM, SEMINAR & EXHIBITION
開催期間 :2009年5月31日−6月5日
開催場所 :San Antonio (Texas, USA)

*要 約*
 高速応答としてブルー相の発表が今回もいくつか報告されている。その中にブルー相だけではなく、 コレステリック液晶の等方相において高分子によって自己組織化を行うことで、ブルー相と同様に Kerr効果が得られたことが報告された。配向に関しては、VAモードにおいて、液晶または配向膜に UV硬化性のモノマーを溶解させて光硬化によるプレチルトを持たせる報告がなされた。また、 以前からのコレステリック液晶や強誘電性液晶を用いたディスプレイ、新しい方向としてLCDではないが electro wetting方式ディスプレイの報告があった。

(以上)

(2009年 6月24日掲載)
(H21-No.8)第4分野 ディスプレイ

SID2009ショート速報[PDP関連]
報告者:打土井(うちどい)正孝(パナソニック株式会社)
会議名 :47th SID INERNATIONAL SYMPOSIUM, SEMINAR & EXHIBITION
開催期間 :2009年5月31日−6月5日
開催場所 :San Antonio (Texas, USA)

*要 約*
 SID‘09は世界的な不況と直前の新型インフルエンザの影響で参加者が半減する状況だった。 PDPセッションも聴講者が大幅に減ったが、議論は大いに盛り上がり、MgO以外の保護膜材料、 MgOからのエキソエレクトロン放出機構のモデル化、省電力の駆動法やその設計手法、3D表示 のための短残光蛍光体などの話題が取り上げられた。

(以上)

(2009年 6月24日掲載)
(H21-No.9)第7分野 太陽光エネルギー

IEEE光起電力専門家会議ショート速報[太陽電池]
報告者:山口真史(豊田工大)
会議名 :34th IEEE Photovoltaic Specialists Conference
開催期間 :2009年6月7日−12日
開催場所 :Downtown Marriott Philadelphia (フィラデルフィア、米国)

*要 約*
 1,348名の参加者があり、IEEE 光起電力専門家会議としては、これまでの最大の参加者であった。 オバマ大統領の“再生および雇用創出”政策方針の下、再生可能エネルギーの導入および 研究開発の強化の方向性が感じられた。2030年までに、1990年比30%のCO2排出削減が 要求されており、3000GWの太陽光発電導入が必要である。そのためには、太陽電池の効率、 コスト、寿命、導入の広域性・迅速性、プラグイン・ハイブリッドなどの新たな市場創出、など多くの 課題がある。集光式太陽光(熱)発電も大きな可能性を秘めている。研究発表では、 Fraunhofer ISEのグループによる世界最高効率41.1%の達成が話題となった。

(以上)

(2009年 6月25日掲載)
(H21-No.10)第3分野 光メモリ・情報処理

MORIS2009ショート速報
報告者:田中拓男(理化学研究所)
会議名 :Magnetics and Optics Research International Symposium for New Storage Technology
開催期間 :2009年6月15日−18日
開催場所 :Awaji Yumebutai International Conference Center (Hyogo、日本)

*要 約*
 この国際シンポジウムは,光磁気記録に関する学術的・工学的研究成果を議論する場として設立された. その後,ハードディスクなどの磁気記録技術もその範疇に取り入れて会議を開催している.今回の 会議でも様々な磁気・光学技術に関する議論が行われたが,主に次世代高密度磁気記録技術に 関連する発表が多く見受けられた.特に,熱アシスト磁気記録,マイクロ波アシスト磁気記録など, 光(主に近接場やプラズモン)やマイクロ波技術を併用した新しい磁気記録技術に関する講演と, 記録メディア表面にナノスケールの構造を形成して記録密度の向上を狙うパターンドメディア技術に 関する発表が多かった.

(以上)

(2009年 6月30日掲載)
(H21-No.11)第6分野 加工・計測

LiM2009ショート速報
報告者:瀬口正記(三菱電機)
会議名 :Lasers in Manufacturing 2009 / LASER World of PHOTONICS
開催期間 :2009年6月15日−18日
開催場所 :新ミュンヘン国際見本市会場 (Munich、ドイツ)

*要 約*
 LASER World of PHOTONICSは、2年に一度ミュンヘンにて開催されるレーザ及びレーザ周辺光学部品に 関する世界最大の展示会(1040社、参加者24,000以上)であり、これに併設されて9つの国際会議と 展示会場内でのメーカプレゼンが行われていた。報告者はこのうちレーザ加工に関連するLiMを中心に 聴講した。CLEOがサイエンティフィックな内容、あるいは、新材料、フェムト秒発生手法といった探索へ 重点を置いているのに対し、実際的な加工についてはLiMが分担している。招待講演ではメーカからの 技術サマリーと製品紹介に近い発表が多かったと感じられた。展示会は各社新製品発表の場と捉えられ、 プロト機も含めた新製品、高出力高ビーム品質のLD直接、ファイバレーザ、ディスクレーザの高効率化、 小型化が印象的であった。

(以上)

(2009年 6月30日掲載)
(H21-No.12)第7分野 太陽光エネルギー

CSSC-3 ショート速報
報告者:柿本浩一(九州大学)
会議名 :3rd International Workshop on Crystalline Silicon Solar Cells
開催期間 :2009年6月3日−5日
開催場所 :ノルウェー工科大学 (Trondheim、ノルウェー)

*要 約*
 2009年6月3日から5日にノルウェーのトロンハイムにて、3rd International Workshop on Crystalline Silicon Solar Cellsが 開催された。世界の12カ国から約120名の参加者があり、材料とプロセスの観点から太陽電池用 シリコン結晶に関して活発な議論がなされた。会議は4つのセッションと2つのポスターセッションで 構成されており(1.原料問題、2.結晶成長、3.欠陥エンジニアリング、4.物性)、計32件の 講演と47件のポスター発表が行われた。さらに、講演会の後にはノルウェー工科大学の研究質の 見学が行われた。いずれのセッションも活発に質疑が行われていた。本稿では、各発表に対して 印象に残ったトピックについて、そのポイントを報告する。

(以上)

(2009年 7月 6日掲載)
(H21-No.13)第5分野 ヒューマンインターフェース

IISW2009ショート速報[イメージセンサ関連]
報告者:太田 淳(奈良先端大)
会議名 :International Image Sensor Workshop
開催期間 :2009年6月25日−28日
開催場所 :Solstrand Hotel and Bad (Bergen, ノルウェイ)

*要 約*
 2年に1回開催されるイメージセンサに特化した唯一の会議であるInternational Image Sensor Workshop (IISW)が ノルウェイの古都ベルゲンに近いSolstrand Hotel and Badで6月25日〜28日の4日間にわたり開催された. 参加者は約150人で初日は最近話題の裏面入射型イメージセンサのシンポジウムが開催され, 翌日から3日間のワークショップでは,裏面入射,微細画素,3次元レンジファインダなど最新の イメージセンサに関するトピックスについて77件(招待講演含む)の発表と活発な議論がかわされた.

(以上)

(2009年 7月 9日掲載)
(H21-No.14)第6分野 加工・計測

LAMP2009ショート速報
報告者:岡本康寛(岡山大学)
会議名 :The 5th International Congress on Laser Advanced Material Processing
- The 10th International Symposium on Laser Precision Microfabrication (LPM)
- The 5th International Symposium on High Power Laser Processing (HPL)
開催期間 :2009年6月29日−7月2日
開催場所 :神戸国際展示場(神戸市、日本)

*要 約*
 LAMP2009はマイクロ加工のLPM(The 10th International Symposium on Laser Precision Microfabrication)と マクロ加工のHPL(The 5th International Symposium on High Power Laser Processing)から構成されており、 今回からは展示会としてILJ(Industrial Laser Japan)が初めての試みとして併設された。マイクロ、 マクロ加工ともに基礎研究から産業応用まで幅広いトピックスに関して講演が行われており、 マイクロ加工ではナノ粒子、ナノ構造など製造と特性および超短パルスレーザによる高効率微細加工、 マクロ加工では高輝度なファイバーレーザやディスクレーザを用いた溶接現象の解明とその制御などを 中心に活発な議論が行われていた。

(以上)

(2009年 7月15日掲載)
(H21-No.15)第8分野 メディカル光産業技術

ECBO 2009および Medical Laser Applications 2009速報
報告者:石井 克典,粟津 邦男(大阪大学大学院工学研究科)
会議名 :European Conference on Biomedical Optics (ECBO) 2009
開催期間 :2009年6月14日−6月18日
開催場所 :International Congress Centre Munich (Munich, Germany)

*要 約*
 今年のECBO 2009およびMedical Laser Applications 2009における話題は、やはり「診断」と 「バイオ分析」であった。細胞レベルでの蛍光イメージング、近赤外光を用いた脳イメージング、 OCTの眼科・皮膚科応用や信号処理・イメージ処理など、イメージングに関する多数の報告があった。 各種診断技術の対象として動脈硬化症の不安定性プラークが意外と多かった。OCTに関しては、 治療の支援技術として利用した研究が散見された。治療分野に関しては光線力学治療が多く、 光感受性物質はHypericin®、Foslipos®、Levulan®、Metvix®の利用が目立っていた。 それ以外のレーザー治療に関しては近赤外波長および中赤外波長の利用が多く、臨床例も多数紹介されていた。

(以上)

(2009年 8月 6日掲載)
(H21-No.16)第5分野 ヒューマンインタフェース

HCII2009 ショート速報[脳機能計測及び防災・危機管理関連]
報告者:下田 宏(京都大学),仲谷善雄(立命館大学)
会議名 :The 13th International Conference on Human-Computer Interaction (HCII2009)
開催期間 :2009年 7月19日−7月24日
開催場所 :Town and Country Resort & Convention Center
(San Diego, California,アメリカ)

*要 約*
 HCII2009 では、人間とコンピュータとのインタラクションに関して基礎研究から応用研究まで約1,400件の 口頭発表と約200 件のポスター発表があった。脳機能計測関連では、近年の脳科学の応用としてEEG、 fMRI、fNIRS を応用したものが増えてきており、さらにBCI(Brain Computer Interface)研究も数多く見られ、 新しい脳機能計測法とともにこの分野が発展している様子がわかった。また、防災・危機管理関連では、 航空機や医療分野に情報技術を応用した研究が多かった。

(以上)

(2009年 8月17日掲載)
(H21-No.17)第2分野 光通信ネットワーク

OECC2009ショート速報[伝送関連]
報告者:塙(はなわ) 雅典(山梨大学)
会議名 :The 14th OptoElectronics and Communications Conference
開催期間 :2009年 7月13日 − 7月17日
開催場所 :Hong Kong

*要 約*
 OECC2009は世界的な不況と直前に香港で猛威をふるった新型インフルエンザの影響にも関わらず 参加者数は最終的には500名を超え,日本国内開催に次いで参加者数が多い会議となった (General Chair, Prof. P.K.A. Wai談).初日のワークショップから大勢の聴講者が熱心に参加し, 特にOFDMやコヒーレント伝送技術などで議論が大いに盛り上がった.

(以上)

(2009年 8月21日掲載)
(H21-No.18)第5分野 ヒューマンインタフェース

HCII2009ショート速報[ユニバーサルアクセス関連]
報告者:渡辺 昌洋(NTT)
会議名 :The 13th International Conference on Human-Computer Interaction (HCII2009)
開催期間 :2009年 7月19日 − 7月24日
開催場所 :Town and Country Resort
& Convention Center
(San Diego, California,アメリカ)

*要 約*
 国際会議速報H21-No.16に引き続き、HCII2009の報告をする。HCII2009では、人間とコンピュータとの インタラクションに関して基礎研究から応用研究まで約1,400件の口頭発表と約200件のポスター発表が あった。本報告ではUniversal Access in Human Computer Interactionのセッションの内容について 報告する。高齢者、障がい者向けのインタフェースの研究について多くのセッションが組まれており、 多くの関心を集めていることがわかった。特に、ヨーロッパの研究者の発表では、様々なファンドへの 謝辞が多いのが印象的で、多くの予算を投じて研究が進められているようであった。

(以上)

(2009年 8月31日掲載)
(H21-No.19)第1分野 光材料・デバイス

TDLS 2009ショート速報
報告者:吉村了行(NTTエレクトロニクス)
会議名 :7th International Conference on Tunable Diode Laser Spectroscopy
開催期間 :2009年 7月13日 − 7月17日
開催場所 :The Grand Hotel Zermatterhof (Zermatt、スイス)

*要 約*
 DLS2009は2009年7月13日〜17日にスイスのツェルマットで開催され、114件の論文発表がなされた。 本会議は、Tunable Diode Laser Spectroscopyというニッチな分野にスコープを絞っているため小規模の 国際会議ではあるが、この分野の技術動向を効率的に知ることのできる貴重な国際会議である。
国際原子力機関(IAEA)が核査察で使用するガス検知器の開発など、注目すべき研究動向について 数多くの報告があり、有意義な会議であった。

(以上)

(2009年 9月 9日掲載)
(H21-No.20)第6分野 加工・計測

SPIE Optics+Photonics 2009ショート速報 [加工・計測関連]
報告者:大谷幸利(東京農工大学)
会議名 :SPIE Optics+Photonics 2009
開催期間 :2009年8月2日−8月6日
開催場所 :San Diego Convension Center (San Diego, CA, 米国)

*要 約*
 SPIE(the international society for optics and photonics) Optics + Photonics 2009は、 テクニカルセッション、ショートコース,展示会からなる強大な光科学と光技術の祭典である。 テクニカルコンファレンスでは近年のトレンドであるナノ、ソーラー、フォトニクスデバイス、光技術の 4つの分野で3100件の講演が行われた。その中で,光技術と応用の部門で、先端計測、 加工と計測、偏光のセッションに関して報告する。世界的な不況にもかかわらず光技術の 可能性を体験することができた。

(以上)

(2009年 9月14日掲載)
(H21-No.21)第6分野 加工・計測

CLEO/Pacific Rim 2009ショート速報
報告者:早崎芳夫(宇都宮大学)
会議名 : The 8th Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics
(CLEOR/Pacific Rim 2009)
開催期間 :2009年8月30日−9月3日
開催場所 :Shanghai International Convention Center in Shanghai( China)

*要 約*
 CLEO/PRは、米国で開催されているCLEOの環太平洋地域開催版と言える国際会議である。 その分野は、その名の通り、レーザーと電気光学のほとんど全ての分野を含む14のカテゴリーで 構成されており、今回の会議には700件以上の発表があり、8つのパラレルセッションで行われた。 このようなスコープの広い会議は、日頃、聴くことのできないような研究発表を聴く絶好の機会となる。 本報告は、現在の自分の研究には直接関係のない研究も含む複数の分野にわたる講演内容の報告である。

(以上)

(2009年 9月28日掲載)
(H21-No.22) 第6分野 光材料・デバイス

GFP2009ショート速報[シリコンフォトニクス]
報告者:石川靖彦(東大)
会議名 : 6th International Conference on Group IV Photonics
開催期間 :2009年9月9日−11日
開催場所 :Intercontinental Mark Hopkins (San Francisco、CA、米国)

*要 約*
 6th International Conference on Group IV Photonics(GFP2009)が、2009年9月9−11日に 米国サンフランシスコで開催された。シリコンフォトニクスの中心的な国際会議であり、例年同様、 この分野を先導する各国機関からの発表がなされた。各種光デバイスや集積化技術の着実な進歩、 発光素子関連講演の増加が見られた。注目される成果として、Si上引っ張り歪みn型Geにおいて 光ポンピングによる室温レーザー発振がMITから報告された。

(以上)

(2009年10月 2日掲載)
(H21-No.23) 第7分野 太陽光エネルギ

EU-PVSECショート速報[結晶Si関連]
報告者:大平圭介(北陸先端科学技術大学院大学)
会議名 : 24th European Photovoltaic Solar Energy Conference
開催期間 :2009年9月21日−25日
開催場所 :Hamburg (ドイツ)

*要 約*
 バルク結晶Si系のセッションでは、ECN、Suntechによる多結晶Si太陽電池モジュール効率の記録更新 の報告が注目を集めた。また、Siウェハーをセル化前に簡便な手法でモニタリングする技術にもさらに 磨きがかかっている印象を受けた。Si結晶材料の面では、キャスト法で形成した疑似単結晶Siや upgraded metallurgical-grade Si (UMG-Si)を利用したセルの高いポテンシャルが実証された。 新たな流れとしては、selective emitter形成、plating技術やステンシルを利用した高アスペクト比 フィンガー電極形成など、セル表面構造のさらなる改良を目指した技術に関する発表が多く見受けられた。

(以上)

(2009年10月 7日掲載)
(H21-No.24) 第6分野 加工・計測

FLAIR2009ショート速報
報告者:秋草 直大(浜松ホトニクス)
会議名 : Field Laser Applications in Industry and Research, FLAIR-2009
開催期間 :2009年9月6日−11日
開催場所 :Hotel am Badersee (Grainau, Germany)

*要 約*
 ドイツのミュンヘン郊外の山村であるグライナウで開催され、45件の口頭発表と55件のポスタ発表が 行われた。会議名にSpectroscopyの文字はないが、レーザ吸収分光をベースにしたセンシング応用、 とりわけガスセンシングのフィールド計測にフォーカスした国際会議である。量子カスケードレーザ(QCL)に 代表される2ミクロン以上の中赤外半導体レーザを用いた、環境計測や燃焼ガス計測などの エンジニアリング的な発表が多い。

(以上)

(2009年10月 9日掲載)
(H21-No.25) 第1分野 光材料・デバイス

ECOC2009速報[光材料・デバイス]
報告者:鄭 錫煥(富士通研究所)
会議名 : The 35th International Conference on Optical Communication 2009 (ECOC 2009)
開催期間 :2009年9月20日−24日
開催場所 :Austria Center Vienna (Vienna、オーストリア)

*要 約*
 光デバイス関連の発表は、InP化合物半導体系デバイスに限らず、Si系材料、LiNbO3系材料および 石英系材料を用いた光デバイスの発表も数多く行われた。多値位相変復調デバイスに関しては、 Baud rateを増大せずに大容量化する手段として更なる多値化を図る試みがなされていた。 InP系デバイスに関しては、更なる小型化および高効率化に向け、集積度の向上が報告された。 40GbE/100GbEに関しては、各社の完成度が高まり、実使用条件での伝送特性が報告された。 シリコンフォトニクスに関しては、着実に技術が進歩しており、集積化に向けた取り組みも進められていた。

(以上)

(2009年10月 7日掲載)
(H21-No.26) 第4分野 ディスプレイ

IDRC2009ショート速報 [液晶関連]
報告者:石鍋隆宏(東北大学大学院工学研究科)
会議名 : XXIX International Display Research Conference Eurodisplay 2009
開催期間 :2009年10月14日−17日
開催場所 :University of Rome “La Sapienza” (Rome、イタリア)

*要 約*
 電子ディスプレイに関する国際会議The 29th International Display Research Conference (IDRC 2009)が 2009年10月15日から17日までの3日間、イタリアのローマ大学サピエンツァ校において開催された。 また、これに併設する形で前日にワークショップが開催された。本会議では、液晶ディスプレイ技術を中心に、 フレキシブルディスプレイ、3Dディスプレイ、プロジェクションディスプレイなど次世代ディスプレイの要素技術の 開発に関する発表が目立った。

(以上)

(2009年10月 9日掲載)
(H21-No.27) 第2分野 光通信ネットワーク

ECOC2009ショート速報[光ファイバ関連]
報告者:中西 哲也(住友電気工業株式会社)
会議名 : 35th European Conference on Optical Communication(ECOC2009)
開催期間 :2009年9月20日−24日
開催場所 :Austria Center Vienna (Vienna、オーストリア)

*要 約*
 ECOC2009の概要のうち、ファイバ関連のトピックスを紹介する。ファイバにフォーカスをあてたセッション としてはMicrostructured fiber、Specialty fiber、Multimode fiber for access networkの3つが 設けられた。独立したセッション以外にも高速伝送に関する報告の中で、低損失、低非線形光ファイバが 用いられ、また光ファイバ形デバイスや光ファイバに特徴のある光源等が多数報告され、提案されている 光ファイバの実用化や応用が進められていることを確認できる会議となった。

(以上)

(2009年10月 9日掲載)
(H21-No.28) 第2分野 光通信ネットワーク

ECOC2009ショート速報[基幹伝送]
報告者:谷村 崇仁(富士通研究所)
会議名 : 35th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 :2009年9月20日−24日
開催場所 :Austria Center Vienna (Vienna、オーストリア)

*要 約*
 9月にオーストリア・ウイーンで開催されたECOC2009について、主に基幹系システム向けの光伝送技術に 関して報告する。昨年に引き続き、デジタル信号処理を用いたコヒーレント受信(デジタル・コヒーレント受信)を 中心に、デジタル信号処理を用いた方式に関する発表が多数を占めた。なかでも、光伝送に特有の ファイバ非線型性の克服、高速信号処理のリアルタイム実装技術などが注目を集めていた。 またポストデッドライン論文で200Gb/s級の報告があり、100Gb/sを超える伝送技術への挑戦が 始まっていることが感じられた。

(以上)

(2009年10月14日掲載)
(H21-No.29) 第1分野 光材料・デバイス

PS2009ショート速報[光信号処理デバイス]
報告者:鍬塚治彦(産総研)
会議名 : The 17th International Conference on Photonics in Switching 2009
開催期間 :2009年9月15日−19日
開催場所 :Grand Hotel Continental (Tirrenia-Pisa、イタリア)

*要 約*
 The 17th International Conference on Photonics in Switching(PS) 2009が2009年9月15−19日に イタリアのピサにて開催された。本国際会議は、光スイッチング技術、光スイッチシステムおよびそれらを 利用した光ネットワークシステムに関する国際会議であり、例年にも増して多くの参加者を得て、 この分野を先導する各国機関から活発な発表がなされた。デバイス関連では、集積化デバイスおよび それを用いた光信号処理に関する発表が多数を占めた。

(以上)

(2009年10月14日掲載)
(H21-No.30) 第8分野 メディカル光産業技術

WC 2009ショート速報 [光医療・バイオ応用関連]
報告者:石井 克典(大阪大学大学院工学研究科),石原 美弥(防衛医科大学校)
会議名 : World Congress on Medical Physics and Biomedical Engineering (WC) 2009
開催期間 :2009年9月7日−12日
開催場所 :International Congress Centre Munich (Munich, Germany)

*要 約*
 今回のWC 2009(生体医工学分野における世界最大級の国際会議)は、放射線治療分野および CTやMRIの発表が非常に多く、光技術を用いた医療・バイオ応用研究の報告は少なかったが、 光診断・治療も非常に多岐にわたる応用研究の報告があり、アメリカのみならずヨーロッパの研究動向も 重要であると感じた。また、粒子線治療のためのレーザー加速器技術に関して多数の報告があり 非常に興味深かった。

(以上)

(2009年10月16日掲載)
(H21-No.31) 第3分野 光メモリ・情報処理

ISOM09ショート速報
報告者:中野隆志((独)産業技術総合研究所)
会議名 : International Symposium on Optical Memory 2009
開催期間 :2009年10月4日−8日
開催場所 :Nagasaki Brick Hall (長崎、日本)

*要 約*
 ISOMは、光ディスクの重要な国際会議2つの内の1つであり、主に国内外のメーカーの研究者が多く 集う会議である。今回は、Blu-rayディスクベースの多層化技術でサブテラバイト容量を目指した発表が、 ROM、追記型、書換型のメディアで行われ、実用化を目指したものとして注目された。次世代の 光メモリ技術では、超解像メディアによるシステムが現状のドライブや信号技術そのままで、50GB/layerが 実現できることがコンテンツ再生(倍速)で示された。また、プラズモンを用いた多値記録の新規提案が報告された。

(以上)

(2009年10月19日掲載)
(H21-No.32) 第2分野 光通信ネットワーク

ECOC2009ショート速報[アクセス関連]
報告者:田島 章雄(NECシステムプラットフォーム研究所)
会議名 : 35th European Conference and Exhibition on Optical Communication
開催期間 :2009年9月20日−24日
開催場所 :Austria Center Vienna (Vienna、オーストリア)

*要 約*
 ECOC2009で発表された光アクセスシステム関連の概要について報告する。TDM-PONでは、 10G-EPONの標準化完了を背景にした10Gbps PON向けLSI関連の報告が行われた。WDM-PON 関連では、新規デバイス開発やデバイスの特性改善によるシステム特性改善、新規アーキテクチャに 関する報告が行われた。また、本領域においても、電気信号処理技術を活用したOFDMやDMT技術の 報告が目立ち始めた。

(以上)

(2009年10月21日掲載)
(H21-No.33) 第7分野 太陽光エネルギ

EU-PVSECショート速報[化合物薄膜太陽電池関連]
報告者:中田時夫(青山学院大学)
会議名 : 24th European Photovoltaic Solar Energy Conference
開催期間 :2009年9月21日−25日
開催場所 :Hamburg, (ドイツ)

*要 約*
 化合物薄膜太陽電池セッションでは、昭和シェル石油が30cm角モジュールで変換効率15.7%、 Solibro/Q.Cellsが0.75cm2の大面積モジュールで12.3%(開口効率13.5%)の記録更新があり、 大きな注目を集めた。また、各種のバッファ層に関する発表が多く見受けられたが、中でもZSWが 報告したZnS/ZnMgOバッファ層は反射防止膜なしで変換効率18.0%を達成しており、今後の 進展が注目される。このほか、高効率フレキシブル太陽電池の発表や、耐熱ガラスの使用による 高効率化など興味深い発表が多く見受けられた。

(以上)

(2009年10月30日掲載)
(H21-No.34) 第1分野 光材料・デバイス

ICNS-8 ショート速報 [窒化物半導体の進展]
報告者:山口敦史(金沢工業大学)
会議名 :The 8th International Conference on Nitride Semiconductors
開催期間 :2009年10月18日−23日
開催場所 :Jeju International Convention Center (Jeju、韓国)

*要 約*
 ICNS-8は、参加者が約1000名という大規模な国際会議となった。光デバイスの話題の中心は やはり白色LEDであったが、様々な特性の向上が報告される中で、高電流注入時の発光効率 低下現象の物理的な起源について、いまだに諸説が対立しコンセンサスが得られない状況が 続いている。非極性面上への開発が有望視されていた緑色レーザ開発は、c面上での開発も 巻き返してきたために、どの基板面方位を用いるのがよいのか判断できない状況になってきた。 その他、GaNバルク結晶成長、紫外LED、ナノ構造などそれぞれの分野で興味深い発表があった。

(以上)

(2009年11月 5日掲載)
(H21-No.35) 第2分野 光通信ネットワーク

ECOC2009ショート速報[アーキテクチャ・ネットワーク制御]
報告者:曽根由明(NTT)
会議名 :The 35th European Conference on Optical Communication (ECOC2009)
開催期間 :2009年 9月20日−24日
開催場所 :Austria Center Vienna (Vienna,オーストリア)

*要 約*
 本研究分野では、電気再生中継を行わない光ネットワークであるトランスペアラント光網において、 伝送劣化要素を考慮したネットワーク制御を行うネットワーク制御技術(impairment aware ネットワーク制御) について多くの発表があった。 本技術はテストベッドでの物理レイヤを含めた動作確認結果が報告され、 プロトコル、アルゴリズム単体の研究フェーズから、プロトタイプ検証とネットワーク全体のインテグレーションを 行うフェーズに移っている。その他、新しいアーキテクチャとして物理レイヤの特性を適応的に動的制御する チューナブルな光ネットワークの検討が活発化しつつある。

(以上)

(2009年11月10日掲載)
(H21-No.36) 第1分野 光材料・デバイス

IRMMW-THz2009ショート速報
報告者:谷 正彦(福井大学)
会議名 :The 34th International Conference on Infrared, Millimeter, and Terahertz Waves
開催期間 :2009年 9月21日−25日
開催場所 :Busan(韓国)

*要 約*
 34回目となるInternational Conference on Infrared, Millimeter and Terahertz Waves (IRMMW-THz2009) が韓国の釜山で9月21日から25日にかけて開催された。例年以上に盛況で 554名の参加者と,513件の発表があり,ノーベル受賞者のG. F. Smoot氏をはじめとする著名研究者の Plenary講演(10件),4つのパラレルセッションによる一般口頭発表,およびポスターセッションが行われた。 空気プラズマからの新しいTHz波発生法,DNP-NMRなどの新分光法,プラズモンフォトニクス, メタマテリアル,生体組織とミリ波の相互作用など,非常に話題が豊富であった。また会議終了後の 週末2日間を利用してソウル国立大で著名研究者9名によるPost Conference会議(講義形式のセミナー)も 開催され,充実した内容であった。

(以上)

(2009年11月16日掲載)
(H21-No.37) 第6分野 加工・計測

ICALEO2009ショート速報
報告者:鷲尾 邦彦(パラダイムレーザーリサーチ)
会議名 :28th International Congress on Applications of Lasers & Electro-Optics
開催期間 :2009年 11月2日−5日
開催場所 :Hilton in the Walt Disney World Resort (Orlando,FL,米国)

*要 約*
 ICALEOは、LIA(米国レーザ協会)の主催により年1回開催されるレーザ加工分野で世界最大級の 国際会議である。第28回目となる今回は,太陽電池の加工などではドイツを中心にして欧米諸国から 多数件の意欲的な講演があった。また、ファイバレーザ及びディスクなどの高輝度レーザや、ピコ秒及び フェムト秒レーザなどの短パルスレーザの着実な進展とともに、パルス波形制御やプロファイル制御の 重要性など周辺技術の重要性もクローズアップされた。

(以上)

(2009年12月1日掲載)
(H21-No.38) 第1分野 光材料・デバイス

MOC ’09 速報
報告者:宮下 隆明(リコー)
会議名 :Microoptics conference ‘09
開催期間 :2009年 10月25日−28日
開催場所 :日本科学未来館 (東京、日本)

*要 約*
 MOCは「マイクロオプティクス」に焦点をあわせた学会で、1987年に第1回が日本で開催されて以来、 今回が15回目の開催である。参加者は246名、論文は172件(招待講演などを含み)が報告された (うち日本からは88件)。本年は「ディスプレー・照明」「センシング」「フォトニッククリスタル」「導波路」 「スイッチングデバイス」「ファイバ技術」「光インターコネクション」など9分野のセッションが組まれ、さらに 「高画質ディスプレー・ブロードバンド技術」の特別セッションが設けられ、活発な議論がおこなわれた。

(以上)

(2009年12月7日掲載)
(H21-No.39) 第7分野 太陽光エネルギー

PVSEC19ショート速報[化合物薄膜太陽電池関連]
報告者:山田 明(東京工大学)
会議名 :19th International Photovoltaic Science and Engineering Conference and Exhibtion
開催期間 :2009年 11月9日−13日
開催場所 :International Convention Center (Jeju, 韓国)

*要 約*
 2009年11月9日-13日、韓国Jeju等において第19回のPVSECが開催された。参加者は、 約1,200名である。昭和シェル石油からは、2011年第2四半期までに900MW/年のプラントが 立ち上がる予定であること、アパチャー面積855cm2において変換効率15.7%が得られていることが 報告された。また、AISTからは、アパチャー面積75.7cm2において変換効率16.2%が達成されていることが 報告された。今回は、韓国からのCu(InGa)Se2太陽電池への発表件数が急増した会議であった。

(以上)

(2009年12月22日掲載)
(H21-No.40) 第4分野 ディスプレイ

IDW’09ショート速報[3D関連]
報告者:陶山史朗(徳島大学)
会議名 :The 16th International Display Workshops
開催期間 :2009年 12月9日−11日
開催場所 :World Convention Center Summit(宮崎,日本)

*要 約*
 IDW’09は、16回目の開催となる国際ディスプレイワークショップである。3D分野では33件 (口頭16件、ポスター17件)の発表がなされた。二眼式/多眼式に関わる発表が大勢を占めており、 かつ標準化に関わる発表も昨年に引き続いて行われたことを考えると、実用化へ向けた取り組みが 活発化して来ていると考えられる。表示装置そのものよりも、解像度や左右眼のクロストークなどに 関する発表が目立ち始めているのもその一環と考えられる。

(以上)

(2009年12月22日掲載)
(H21-No.41) 第4分野 ディスプレイ

IDW’09ショート速報[OLED関連]
報告者:中 茂樹(富山大学)
会議名 :The 16th International Display Workshops
開催期間 :2009年 12月9日−11日
開催場所 :World Convention Center Summit(宮崎,日本)

*要 約*
 MIDWは毎年日本国内で開催されているディスプレイに関するワークショップであり、今回は第16回目の 節目の年であった。3日間で13のワークショップによるセッションと2つのトピカルセッションが開催され、 560件を超える報告があった。その中のOLEDワークショップは2001年のトピカルセッションから始まり、 今年で9回目である。オーラルセッションの内容は材料、デバイス技術、アクティブマトリクス、照明、 フレキシブル技術について講演があり、これらの内容について報告する。

(以上)

(2009年12月22日掲載)
(H21-No.42) 第4分野 ディスプレイ

IDW’09ショート速報[LCD関連]
報告者:長谷川雅樹(メルク株式会社)
会議名 :The 16th International Display Workshops
開催期間 :2009年 12月9日−11日
開催場所 :World Convention Center Summit(宮崎,日本)

*要 約*
 LCDが商品として成熟したためか、昨年と大きく異なり、LCDの画質改善技術よりも液晶の配向や 特性の評価方法など基本的な技術の発表がめだった。また、製造コストの観点で有利な古い技術を 見直し、特性を大きく改善する技術の発表もなされた。新しい技術としては、電子ペーパーを始めとした フレキシブルディスプレイ作製技術の発表が数多く見受けられた。全般に製造コストを意識した発表が多く、 時代を反映していた。

(以上)

「主要な国際会議にみる先端光研究の動向調査」報告(詳細版)全文掲載


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