技術開発の推進
 Optoelectronics Industry and Technology Development Association





 ■ 終了した研究開発プロジェクト
  • 超低消費電力型光エレクトロニクス実装システム技術開発(2012〜2021年度)

    データセンタやIT機器の低消費電力のため、シリコンフォトニクスを用いた超小型光トランシーバ(光I/Oコア)及び同トランシーバを搭載したLSIボード、デジタルコヒーレント光トランシーバ、光電子集積インターポーザ技術の開発(2012 年度 経済産業省, 2013 〜 2021 年度NEDO)
     
  • フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発(2009〜2013年度)

    データセンタの機能をチップ上に集積したシステムである「オンチップデータセンタ」の2025年 頃の実現を目標として、フォトニクスとエレクトロニクスの融合に向けた革新的基盤技術の 開発(内閣府 最先端研究開発支援プログラム)

  • 次世代高効率ネットワークデバイス共通基盤技術の研究開発(2007〜2011年度)

    情報化社会のインフラを支え、省エネルギー化への要求に応える大規模エッジルータ及び光ネット ワークインターフェイスの開発(NEDO)

  • 次世代プラズマディスプレイ製造技術の開発プロジェクト(2002年度)
    省エネ型次世代PDPプロジェクト(2003〜2005年度)
    次世代大型低消費電力プラズマディスプレイ基盤技術開発(2007〜2011年度)

    低消費電力で効率よく発光するプラズマディスプレイパネル(PDP)を実現するための低消費電力化技術を開発(NEDO)

  • 低損失オプティカル新機能部材技術開発(2006〜2010年度)

    動作原理に近接場光を利用した従来の光学素子では不可能であった機能・性能を持つ低損失偏光制御部材、光論理ゲート等の新規光機能部材の開発(NEDO)

  • 大容量光ストレージ技術の開発(2002〜2006年度)
    大容量ストレージのためのナノマスタリング技術の研究開発(2007〜2010年度)

    近接場光を用いて1Tb/inch2級の高密度・高性能を実現するテラバイト光ストレージ技術とそれに対応したディスク原盤、スタンパを作製するナノマスタリング技術を開発(NEDO)

  • 省エネルギーレーザ加工のための高効率ファイバ結合型レーザ光源の研究開発(2008〜2010年度)

    レーザ加工分野での省エネを目指し、半導体レーザ応用による高効率レーザ光源及び高出力ファイバ レーザを開発(NEDO)

  • フォトニックネットワーク技術の開発(2002〜2006年度)

    超高速/大容量光スイッチノード用のデバイスの開発と40Gbpsサブシステム実証実験、並びに量子ドットレーザデバイスの実用化(NEDO)
    ・2007年度「産学官連携功労者表彰:内閣総理大臣賞」の受賞

  • 高効率有機デバイスの開発(2002〜2006年度)

    軽量・薄型の「大画面有機ELディスプレイ」、紙のように薄く柔らかいモバイル入出力端末としての「シートディスプレイ」の2つの応用分野を想定し、実用化に必要な要素技術を開発(NEDO)

  • フェムト秒テクノロジー(1995〜2004年度)

    高度情報化社会を支える基盤の創出を目指した光と電子の状態をフェムト秒時間(1千兆分の1秒) 領域で制御する技術を開発(NEDO)

  • ナノメータ制御光ディスクシステムの研究開発(1998〜2002年度)

    記録密度100Gb/inch2以上、転送速度100Mbps以上、アクセス時間10ms以下の次世代のメモリの実用化 に向けた要素技術を開発(NEDO)


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